本發(fā)明涉及
光伏器件制作工藝領(lǐng)域,具體為一種無(wú)機(jī)銫鉛鹵
鈣鈦礦磁控濺射靶材制備與回收和薄膜生長(zhǎng)技術(shù)。常規(guī)的溶液法制備無(wú)機(jī)鈣鈦礦薄膜,由于過(guò)快的液相反應(yīng)不易控制,導(dǎo)致鈣鈦礦薄膜出現(xiàn)不均勻、多孔洞的現(xiàn)象,進(jìn)而影響薄膜的質(zhì)量和性能。本發(fā)明設(shè)計(jì)了一種無(wú)機(jī)鈣鈦礦磁控濺射靶材的制備與回收技術(shù),并采用該靶材在襯底上濺射生長(zhǎng)薄膜。該技術(shù)克服了溶液法生長(zhǎng)薄膜多孔洞的缺點(diǎn),生長(zhǎng)出均勻分布、形貌緊湊、低缺陷密度、高相純度的無(wú)機(jī)鈣鈦礦薄膜,其優(yōu)化的性能和穩(wěn)定的技術(shù)為鈣鈦礦薄膜的商業(yè)化生產(chǎn)應(yīng)用提供了新思路。
聲明:
“無(wú)機(jī)銫鉛鹵鈣鈦礦磁控濺射靶材制備與回收和薄膜生長(zhǎng)技術(shù)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)