哈氏合金反應釜 310     

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哈氏合金反應釜是一種功能強大、耐蝕性優(yōu)良的密閉容器，廣泛應用于化工、石油化工、煙氣脫硫、紙漿和造紙、環(huán)保等工業(yè)領域。它的出色性能和高度可定制性使其成為實驗室和工業(yè)生產中的重要設備。這種高壓釜在多個領域有著廣泛的應用，包括原子吸收光譜、等離子發(fā)射等分析中的溶樣預處理，以及小劑量的合成反應。通過利用罐體內強酸或強堿且高溫高壓密閉的環(huán)境，哈氏合金反應釜能夠實現(xiàn)難溶物質的快速消解。

1400℃攪拌提拉爐 284     

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SJL-1400Z攬拌提拉爐由上開式高溫爐、手動旋轉結構、自動升降及攪拌平臺、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)等組成，可實現(xiàn)1300℃以下晶體的緩慢提拉生產。該產品采用智能化觸摸屏控制，提拉速度可精確調整控制，精度可達0.01mm/ec;爐體為上開門式結構，爐體上蓋部分采用獨特的手提式保溫蓋，方便觀察爐膛內情況。

高真空CVD系統(tǒng) 264     

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上海鉅晶生產的高真空CVD系統(tǒng)（型號：CVD-1700）是一款高性能的化學氣相沉積設備，專為科研和工業(yè)應用設計。該系統(tǒng)由高溫管式爐、高真空擴散泵/分子泵系統(tǒng)、多通道高精度數(shù)字質量流量控制系統(tǒng)和自動壓強控制系統(tǒng)等組成，能夠實現(xiàn)高真空度0.001—0.0001Pa的混合氣體環(huán)境，適用于多種材料的生長和制備，如半導體材料、納米材料、薄膜材料等。

1200℃全自動七溫區(qū)CVD系統(tǒng) 263     

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上海鉅晶提供的1200℃全自動七溫區(qū)CVD系統(tǒng)（型號：CVD-1200-Ⅷ）是一款先進的高溫電爐設備，專為化學氣相沉積工藝設計。該系統(tǒng)具備加長溫區(qū)和多溫區(qū)的特點，能夠滿足全自動CVD系統(tǒng)的需求，適用于高溫電爐、管式爐等應用。設備采用先進的溫控系統(tǒng)，確保溫度控制精確，加熱元件為0Cr27Al7Mo2，工作電源為AC220V 50HZ/60HZ，額定功率4KW，最高溫度可達1200℃，恒溫精度±1℃，加熱區(qū)長度440mm或220mm/220mm，升溫速度≤20℃/min，密封方式為不銹鋼快速法蘭擠壓密封。

1200℃大管徑CVD系統(tǒng) 264     

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上海鉅晶提供的1200℃大管徑CVD系統(tǒng)（型號：CVD-1200）是一款專業(yè)的高溫電爐，適用于進行大管徑管式爐的熱處理作業(yè)。這款設備特別適用于高溫氣氛爐中的真空氣氛爐操作，可用于氣氛保護燒結、氣氛還原和退火等多種工藝過程。CVD系統(tǒng)由供氣系統(tǒng)+管式爐+抽氣系統(tǒng)組成，最高溫度可以達到1200度、1400度、1600度、1700度，加熱區(qū)間可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達到10^-3^Pa。

CVD-1200系統(tǒng) 277     

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CVD-1200系統(tǒng)由開啟式單(雙)溫區(qū)管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、壓強控制儀及多通道高精度數(shù)字質量流量控制系統(tǒng)組成。可實現(xiàn)真空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。

CVD-1700浮子混氣系統(tǒng) 259     

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CVD-1700系統(tǒng)由SGL-1700真空管式爐，HQF-Ⅲ浮子混氣系統(tǒng)，內置測溫系統(tǒng)及真空系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結溫度可達1700℃:真空泵采用雙極旋片真空泵，真空度可達到5x10-1Pa;可實現(xiàn)不同的1~3路氣體混合;內置測溫系統(tǒng)可實時監(jiān)測反應管內的溫度變化。

1200℃真空氣氛箱式爐 253     

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1200℃真空氣氛箱式爐是我司研發(fā)改進的新款產品，可視化的7寸大觸摸屏，程序設置更快捷,設備運行狀態(tài)更直觀，本款產品集成了加熱系統(tǒng)，混氣系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，內循環(huán)水冷卻系統(tǒng)，監(jiān)測系統(tǒng)，都可通過控制按鈕一鍵操作。本機功能全面，滿足客戶絕大部分要求。

1400°C精密氣氛箱式爐 293     

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1400℃精密真空氣氛爐是我司研發(fā)改進的新款產品，可視化的7寸大觸摸屏，程序設置更快捷,設備運行狀態(tài)更直觀，本款產品集成了加熱系統(tǒng)，混氣系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，內循環(huán)水冷卻系統(tǒng)，監(jiān)測系統(tǒng)，都可通過控制按鈕一鍵操作。本機功能全面，滿足客戶絕大部分要求。

全自動真空氣氛爐 263     

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上海鉅晶提供的1700℃全自動真空氣氛爐（型號：SQFL-1700A）是一款先進的電爐設備，專為氣氛保護燒結、氣氛還原、退火等工藝設計。該爐能夠實現(xiàn)全自動操作，具備高精度控溫系統(tǒng)，確保工藝過程的穩(wěn)定性和重復性。設備采用優(yōu)質硅鉬棒作為加熱元件，配備B型熱電偶進行溫度測量，且爐膛結構采用日本技術真空吸附成型的優(yōu)質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能優(yōu)越。此外，該爐還預留了485轉換接口，可通過選配軟件與計算機聯(lián)接，實現(xiàn)單臺或者多臺電爐的遠程控制、實時追蹤、歷史記錄、輸出報表等功能。

1700℃超值氣氛箱式爐 340     

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1700℃超值真空氣氛爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，控溫精度高。本款產品具備有加熱系統(tǒng)，監(jiān)測系統(tǒng)。預留有路進氣接口，真空系統(tǒng)接口，內循環(huán)水冷卻系統(tǒng)接口，都可快速連接使用。本機功能強大，操作簡便，滿足客戶絕大部分要求。

1000℃真空氣氛攪拌爐 260     

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1000℃真空氣氛攪拌爐是我所研發(fā)改進的新款產品，可在高真空或在氣氛環(huán)境下對物料進行攪拌，滿足客戶的實驗要求;本款產品集成了升降攪拌系統(tǒng)，磁力密封系統(tǒng)，溫控系統(tǒng)，混氣系統(tǒng)，真空系統(tǒng)等，可通過控制按鈕一鍵操作完成。

1100℃高真空氣氛爐 268     

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1100℃高真空氣氛爐以摻鉬電陽絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化控溫系統(tǒng)，可控控制,控溫精度高內膽采用耐溫、耐壓合金材料:爐門配有循環(huán)水冷，保證爐門與爐膽的可靠密封;可選配真空裝置，可以通氣氛抽真空。

真空氣氛爐 286     

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該產品是我公司研發(fā)的功能強大的真空氣氛爐，集成了加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、溫度及真空監(jiān)測系統(tǒng)等，7寸觸摸屏智能化系統(tǒng)，可實現(xiàn)一鍵操作智能化控制。

義齒燒結爐 293     

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義齒燒結爐/升降氣氛爐為我公司自主研發(fā)的功能強大的加熱設備，主要應用于義齒加工行業(yè)的氧化鋯燒結，也可用于粉末冶金行業(yè)的高溫材料在保護氣氛下燒結與退火。該產品采用進口硅鉬棒加熱，爐體為下裝載自動升降結構，造型新穎，結構科學、合理，是高溫材料燒結領域的主流設備。

1100℃坩堝爐 318     

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1100℃坩堝爐以摻鉬電阻絲為加熱元件，爐膛采用進口氧化鋁多品纖維材料，保溫性能好，耐用，拉伸強度高，無雜球，純度高，節(jié)能優(yōu)于國內纖維材料，爐體采用雙層爐殼，使爐殼外表面溫度更低;加熱釜采用耐溫、耐腐合金材料;水冷法蘭密封，氣密性能好;釜蓋配有電極監(jiān)測入孔，可根據(jù)電極的電流監(jiān)測釜內反應情況;是電化學反應的理想加熱器。

1700°C升降氣氛爐 284     

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上海鉅晶品牌提供的1700°C升降氣氛爐（型號：SJQL-1700）是一款專為高溫電爐、義齒燒結爐、升降爐和氣氛燒結爐設計的設備。該設備主要用于精密鑄件、變壓器、高壓電機及陶瓷復合材料等的真空-壓力浸漬處理，廣泛應用于電子元器件、建筑材料、食品、紡織等領域。升降氣氛爐具備優(yōu)良的耐壓性和密封性，配有安全防護系統(tǒng)以防止誤操作，同時擁有單獨的輸漆、回漆管路以避免漆污染，以及高效的尾氣處理系統(tǒng)來處理殘余尾氣，確保操作安全。

1700℃坩堝升降爐 289     

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1700℃坩堝升降爐由爐體，過渡區(qū)，爐門絲桿下降系統(tǒng)及支架等組成。高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，鉬棒圓周形分布，使溫場更均勻:坩堝升降部分采用無級調速電機控制絲桿調節(jié)，上下限采用限位開關控制，保證坩堝運行的平穩(wěn)、安全。

高溫升降氣氛爐 213     

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高溫升降氣氛爐為我公司自主研發(fā)的功能強大的加熱設備，主要應用于義齒加工行業(yè)的氧化鋯燒結，也可用于粉末治金行業(yè)的高溫材料在保護氣氛下燒結與退火。該產品采用進口硅鉬棒加熱，爐體為下裝載自動升降結構，造型新穎，結構科學、合理，是高溫材料燒結領域的主流設備。

1100℃多工位回轉爐 216     

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1100℃多工位回轉爐由爐體、升降組件、爐管旋轉組件等組成。燒結過程中爐管可旋轉，實驗完成后可將爐體可傾斜，取料更加方便、快捷;爐管采用耐高溫合金加工而成，可抽真空，通氣氛，承受一定的正壓;爐體為雙層爐殼，采用當前流行的空氣隔熱技術配合感應熱技術驅動智能化風冷系統(tǒng)，快速有效的降低外殼溫度。

1200℃可傾斜旋轉管式爐 287     

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1200℃可傾斜旋轉管式爐是我公司新開發(fā)的一款自動化程度較高的實驗燒結設備;采用觸摸屏及PLC控制系統(tǒng)鍵智能化操作，圖文界面操作簡單、便捷:爐體可傾斜，爐管可連續(xù)旋轉;管內壁有石英擋片幫助粉料翻轉，有助于燒結的更均勻;上蓋可開啟，實現(xiàn)快速降溫。

1200℃立式開啟式管式爐 277     

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1200℃立式開啟式管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控控制，控溫精度高;雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度:開啟式爐蓋設計，可在高溫情況下觀察物料反應情況并實現(xiàn)迅速降溫;真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛:爐體處于立式工作位置。

小型立式管式爐 278     

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1200℃小型立式管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高;雙層殼體結構，設計合理，外形美觀，結構緊湊;雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度;真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。

1200℃超值多工位管式爐 276     

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SZGL-1200C多工位真空管式爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構，設計合理，外形美觀，結構緊湊;可在水平或者垂直工位下工作，滿足不同實驗需要，大大提高了其使用范圍;結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。

雙溫區(qū)滑動式管式爐 274     

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1200℃雙溫區(qū)滑動式管式爐是為生長石墨烯研制的專用爐，也同樣適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。爐體采用開啟式結構，內置兩個溫區(qū)，可以營造不同的溫度梯度;爐底安裝有直線滑軌，當石墨烯生長結束后，左右拉動爐體能夠保證有足夠的空間使實驗樣品移出爐體，實現(xiàn)快速隆溫的要求。

三溫區(qū)開啟式管式爐 268     

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1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高;雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效降低外殼表面溫度;開啟式爐蓋設計，可在高溫情況下觀察物料反應情況并實現(xiàn)迅速降溫;真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛;內置三個溫區(qū)，可以營造不同的溫度梯度。

1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐 269     

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1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高;雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效降低外殼表面溫度:開啟式爐蓋設計，可在高溫情況下觀察物料反應情況并實現(xiàn)迅速降溫:真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛:內置五個加熱溫區(qū)，可以營造不同的溫度梯度。

小型四通道管式爐 264     

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上海鉅晶提供的小型四通道管式爐是一款適用于多種材料高溫處理的設備，能夠滿足不同工藝需求。該設備以1700型優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，確保了控溫精度高。雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度，同時結合標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛，為實驗提供了靈活的操作環(huán)境。該設備接受定制服務，可根據(jù)客戶的具體要求進行個性化設計和制造，以滿足特定的實驗或生產需求。

1700℃精密真空氣氛管式爐 252     

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SGL-1700精密型真空管式爐采用觸摸屏控制系統(tǒng)，一鍵智能化操作，圖文界面操作更便捷;高真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。

1700℃超值管式爐 261     

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1700℃超值管式爐以1700型優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高:雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度;結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。