權(quán)利要求書： 1.一種回轉(zhuǎn)窯窯位的調(diào)整裝置，其特征在于，所述調(diào)整裝置包括調(diào)整組件、測距組件和控制組件；

所述調(diào)整組件設(shè)置在所述回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)上，包括：摩擦劑單元和摩擦劑輸運管路，所述摩擦劑輸運管路一端連接摩擦劑單元，另一端開口并向回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組頂輪延伸，所述摩擦劑輸運管路上設(shè)有第一控制閥；

潤滑劑單元和潤滑劑輸運管路，所述潤滑劑輸運管路一端連接潤滑劑單元，另一端開口并向所述Ⅱ組頂輪延伸，所述潤滑劑輸運管路上設(shè)有第二控制閥；

所述測距組件用于實時測量標(biāo)定點與所述回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組托圈之間的距離值d；

所述控制組件連接所述第一控制閥、第二控制閥和所述測距組件；當(dāng)檢測到所述距離值d在第一預(yù)設(shè)范圍時，所述控制組件控制所述第二控制閥開啟、第一控制閥關(guān)閉，在所述Ⅱ組頂輪和所述Ⅱ組托圈之間添加潤滑劑；當(dāng)檢測到所述距離值d在第二預(yù)設(shè)范圍時，所述控制組件控制所述第二控制閥關(guān)閉、第一控制閥開啟，在所述Ⅱ組頂輪和所述Ⅱ組托圈之間添加摩擦劑。

2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整裝置，其特征在于，所述當(dāng)檢測到所述距離值d在第一預(yù)設(shè)范圍時，所述控制組件控制所述第二控制閥開啟、第一控制閥關(guān)閉，在所述Ⅱ組頂輪和所述Ⅱ組托圈之間添加潤滑劑，具體包括：當(dāng)所述距離值d滿足d

當(dāng)所述距離值d滿足d

當(dāng)所述距離值d滿足d≥d0+d2時，所述控制組件控制所述第二控制閥關(guān)閉、第一控制閥關(guān)閉，以使所述調(diào)整組件停止添加潤滑劑；

其中，所述d0為回轉(zhuǎn)窯上行極限位，所述d1為回轉(zhuǎn)窯上行上限位，所述d2為回轉(zhuǎn)窯下行上限位。

3.如權(quán)利要求2所述的調(diào)整裝置，其特征在于，所述d0的取值范圍為500mm

所述d1的取值范圍為5mm

4.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整裝置，其特征在于，所述當(dāng)檢測到所述距離值d在第二預(yù)設(shè)范圍時，所述控制組件控制所述第二控制閥關(guān)閉、第一控制閥開啟，在所述Ⅱ組頂輪和所述Ⅱ組托圈之間添加摩擦劑，具體包括：當(dāng)所述距離值d滿足d0+d2

當(dāng)所述距離值d滿足d≤d0+d2時，所述控制組件控制所述第二控制閥關(guān)閉、第一控制閥關(guān)閉，以使所述調(diào)整組件停止添加摩擦劑；

其中，所述d0為回轉(zhuǎn)窯上行極限位，所述d2為回轉(zhuǎn)窯下行上限位，所述d3為回轉(zhuǎn)窯下行極限位。

5.如權(quán)利要求4所述的調(diào)整裝置，其特征在于，所述d0的取值范圍為500mm

所述d2的取值范圍為65mm

6.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整裝置，其特征在于，所述調(diào)整組件還包括第一球形閥和第二球形閥；

所述第一球形閥通過管路與所述第一控制閥并聯(lián)，所述第二球形閥通過管路與所述第二控制閥并聯(lián)。

7.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整裝置，其特征在于，所述第一控制閥和所述第二控制閥均為動力閥。

8.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整裝置，其特征在于，所述摩擦劑為石英砂。

9.如權(quán)利要求1所述的調(diào)整裝置，其特征在于，所述潤滑劑為二硫化鉬粉末。

10.一種回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，所述回轉(zhuǎn)窯包括Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)、Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈，在所述Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)上設(shè)有如權(quán)利要求1～9任一項所述的調(diào)整裝置。

說明書： 一種回轉(zhuǎn)窯窯位的調(diào)整裝置及回轉(zhuǎn)窯技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本申請涉及鋼鐵冶金技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種回轉(zhuǎn)窯窯位的調(diào)整裝置及回轉(zhuǎn)窯。背景技術(shù)[0002] 高爐煉鐵中的鏈篦機?回轉(zhuǎn)窯?環(huán)冷機氧化球團生產(chǎn)線是采用鏈篦機干燥、預(yù)熱；回轉(zhuǎn)窯焙燒、固結(jié)；環(huán)冷機均熱、冷卻的現(xiàn)代化球團生產(chǎn)工藝，具有二次能源利用率高、清潔

環(huán)保、成品礦質(zhì)量高、能耗低等優(yōu)點，在球團生產(chǎn)工藝中被廣泛應(yīng)用。

[0003] 回轉(zhuǎn)窯是在高溫下重載運行的大型設(shè)備，通常由帶有傾斜布置(斜度1％?6％)安裝在支承裝置上的薄壁鋼桶并內(nèi)襯耐火材料構(gòu)成，該設(shè)備對運行穩(wěn)定與密封性有較高的要

求：預(yù)熱球經(jīng)過鏈篦機與回轉(zhuǎn)窯上連接口進入窯內(nèi)，依靠窯體旋轉(zhuǎn)與重力完成焙燒與卸料

過程?；剞D(zhuǎn)窯在運行過程中可能因為各種因素導(dǎo)致回轉(zhuǎn)窯重心動態(tài)變化，使回轉(zhuǎn)窯體出現(xiàn)

上下竄動現(xiàn)象，嚴重時將磨損窯體首尾縮口及上下道工序連接處的耐火材料，最終造成停

產(chǎn)的嚴重后果。目前采用的方案是對回轉(zhuǎn)窯頂輪定時監(jiān)控并進行人工調(diào)整，但人工監(jiān)控、調(diào)

節(jié)、反饋具有滯后性和偶然性，不能確?；剞D(zhuǎn)窯窯位保持在最佳位置范圍。

發(fā)明內(nèi)容[0004] 本發(fā)明提供了一種回轉(zhuǎn)窯窯位的調(diào)整裝置及回轉(zhuǎn)窯，以解決或者部分解決回轉(zhuǎn)窯窯位無法實時在線調(diào)整，造成回轉(zhuǎn)窯損傷甚至停產(chǎn)的技術(shù)問題。

[0005] 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種回轉(zhuǎn)窯窯位的調(diào)整裝置，包括調(diào)整組件、測距組件和控制組件；

[0006] 調(diào)整組件設(shè)置在回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)上，包括：[0007] 摩擦劑單元和摩擦劑輸運管路，摩擦劑輸運管路一端連接摩擦劑單元，另一端開口并向回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組頂輪延伸，摩擦劑輸運管路上設(shè)有第一控制閥；

[0008] 潤滑劑單元和潤滑劑輸運管路，潤滑劑輸運管路一端連接潤滑劑單元，另一端開口并向Ⅱ組頂輪延伸，潤滑劑輸運管路上設(shè)有第二控制閥；

[0009] 測距組件用于實時測量標(biāo)定點與回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組托圈之間的距離值d；[0010] 控制組件連接第一控制閥、第二控制閥和測距組件；當(dāng)檢測到距離值d在第一預(yù)設(shè)范圍時，控制組件控制第二控制閥開啟、第一控制閥關(guān)閉，在Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈之間添加

潤滑劑；當(dāng)檢測到距離值d在第二預(yù)設(shè)范圍時，控制組件控制第二控制閥關(guān)閉、第一控制閥

開啟，在Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈之間添加摩擦劑。

[0011] 可選的，當(dāng)檢測到距離值d在第一預(yù)設(shè)范圍時，控制組件控制第二控制閥開啟、第一控制閥關(guān)閉，在Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈之間添加潤滑劑，具體包括：

[0012] 當(dāng)距離值d滿足d[0013] 當(dāng)距離值d滿足d[0014] 當(dāng)距離值d滿足d≥d0+d2時，控制組件控制第二控制閥關(guān)閉、第一控制閥關(guān)閉，以使調(diào)整組件停止添加潤滑劑；

[0015] 其中，d0為回轉(zhuǎn)窯上行極限位，d1為回轉(zhuǎn)窯上行上限位，d2為回轉(zhuǎn)窯下行上限位。[0016] 進一步的，d0的取值范圍為500mm[0017] 如上述的技術(shù)方案，當(dāng)檢測到距離值d在第二預(yù)設(shè)范圍時，控制組件控制第二控制閥關(guān)閉、第一控制閥開啟，在Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈之間添加摩擦劑，具體包括：

[0018] 當(dāng)距離值d滿足d0+d2[0019] 當(dāng)距離值d滿足d≤d0+d2時，控制組件控制第二控制閥關(guān)閉、第一控制閥關(guān)閉，以使調(diào)整組件停止添加摩擦劑；

[0020] 其中，d0為回轉(zhuǎn)窯上行極限位，d2為回轉(zhuǎn)窯下行上限位，d3為回轉(zhuǎn)窯下行極限位。[0021] 進一步的，d0的取值范圍為500mm[0022] 可選的，調(diào)整組件還包括第一球形閥和第二球形閥；[0023] 第一球形閥通過管路與第一控制閥并聯(lián)，第二球形閥通過管路與第二控制閥并聯(lián)。

[0024] 可選的，第一控制閥和第二控制閥均為動力閥。[0025] 可選的，摩擦劑為石英砂。[0026] 可選的，潤滑劑為二硫化鉬粉末。[0027] 基于前述技術(shù)方案相同的發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明還提供了一種回轉(zhuǎn)窯，回轉(zhuǎn)窯包括Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)、Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈，在Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)上設(shè)有上述技術(shù)方案中的調(diào)整裝置。

[0028] 通過本發(fā)明的一個或者多個技術(shù)方案，本發(fā)明具有以下有益效果或者優(yōu)點：[0029] 本發(fā)明提供了一種回轉(zhuǎn)窯窯位的調(diào)整裝置，通過測距組件測量標(biāo)定點與回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組托圈之間的距離值，控制組件對距離值進行實時判斷，當(dāng)距離值在第一預(yù)設(shè)范圍時，控

制調(diào)整組件在Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈之間添加潤滑劑，當(dāng)距離值在第二預(yù)設(shè)范圍時，控制調(diào)

整組件在Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈之間添加摩擦劑；上述調(diào)整裝置實現(xiàn)了連續(xù)監(jiān)測窯位信息，

并根據(jù)窯位信息確定添加潤滑劑或摩擦劑，以實時調(diào)整回轉(zhuǎn)窯窯位在目標(biāo)范圍內(nèi)，從而保

證回轉(zhuǎn)窯在正常位置處工作，避免回轉(zhuǎn)窯因過度的竄動產(chǎn)生設(shè)備損傷，以及對正常生產(chǎn)節(jié)

奏的不利影響。

[0030] 上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點能夠

更明顯易懂，以下特舉本發(fā)明的具體實施方式。

附圖說明[0031] 通過閱讀下文優(yōu)選實施方式的詳細描述，各種其他的優(yōu)點和益處對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將變得清楚明了。附圖僅用于示出優(yōu)選實施方式的目的，而并不認為是對本發(fā)明

的限制。而且在整個附圖中，用相同的參考符號表示相同的部件。在附圖中：

[0032] 圖1示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的回轉(zhuǎn)窯窯位調(diào)整裝置的示意圖；[0033] 圖2示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的回轉(zhuǎn)窯結(jié)構(gòu)示意圖；[0034] 圖3示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的控制元件的判斷邏輯流程圖；[0035] 圖4示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的控制元件的判斷示意圖；[0036] 附圖標(biāo)記說明：[0037] 1、調(diào)整組件；11、摩擦劑單元；12、摩擦劑輸運管路；13、第一控制閥；14、潤滑劑單元；15、潤滑劑輸運管路；16、第二控制閥；17、第一球形閥；18、第二球形閥；2、測距組件；3、

控制組件；41、Ⅰ組頂輪基礎(chǔ)；42、Ⅰ組擋輪；43、Ⅰ組頂輪；44、Ⅰ組托圈；45、齒圈；46、傳動齒輪；

47、主驅(qū)動；48、Ⅱ組頂輪；49、Ⅱ組托圈；50、Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)；51、回轉(zhuǎn)窯主體。

具體實施方式[0038] 為了使本申請所屬技術(shù)領(lǐng)域中的技術(shù)人員更清楚地理解本申請，下面結(jié)合附圖，通過具體實施例對本申請技術(shù)方案作詳細描述。在整個說明書中，除非另有特別說明，本文

使用的術(shù)語應(yīng)理解為如本領(lǐng)域中通常所使用的含義。因此，除非另有定義，本文使用的所有

技術(shù)和科學(xué)術(shù)語具有與本發(fā)明所屬領(lǐng)域技術(shù)人員的一般理解相同的含義。若存在矛盾，本

說明書優(yōu)先。除非另有特別說明，本發(fā)明中用到的各種設(shè)備等，均可通過市場購買得到或者

可通過現(xiàn)有方法制備得到。

[0039] 為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的回轉(zhuǎn)窯的窯位不能實時在線調(diào)整的問題，在一個可選的實施例中，如圖1所示，提供了一種回轉(zhuǎn)窯窯位的調(diào)整裝置，包括調(diào)整組件1、測距組件2和控制

組件3；

[0040] 調(diào)整組件1設(shè)置在回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)上，包括：[0041] 摩擦劑單元11和摩擦劑輸運管路12，摩擦劑輸運管路12一端連接摩擦劑單元11，另一端開口并向回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組頂輪48延伸，摩擦劑輸運管路12上設(shè)有第一控制閥13；

[0042] 潤滑劑單元14和潤滑劑輸運管路15，潤滑劑輸運管路15一端連接潤滑劑單元14，另一端開口并向Ⅱ組頂輪48延伸，潤滑劑輸運管路15上設(shè)有第二控制閥16；

[0043] 測距組件2用于實時測量標(biāo)定點與回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組托圈之間的距離值d；[0044] 控制組件3連接第一控制閥13、第二控制閥16和測距組件2；當(dāng)檢測到距離值d在第一預(yù)設(shè)范圍時，控制組件3控制第二控制閥16開啟、第一控制閥13關(guān)閉，在Ⅱ組頂輪48和Ⅱ

組托圈之間添加潤滑劑；當(dāng)檢測到距離值d在第二預(yù)設(shè)范圍時，控制組件3控制第二控制閥

16關(guān)閉、第一控制閥13開啟，在Ⅱ組頂輪48和Ⅱ組托圈之間添加摩擦劑。

[0045] 具體的，本實施例提供的調(diào)整裝置應(yīng)用的回轉(zhuǎn)窯的結(jié)構(gòu)示意圖如圖2所示，回轉(zhuǎn)窯主體51以一定的傾斜角度架設(shè)在Ⅰ組頂輪基礎(chǔ)41和Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)50上：Ⅰ組頂輪基礎(chǔ)41上固

定設(shè)置Ⅰ組擋輪42和Ⅰ組頂輪43，套設(shè)在回轉(zhuǎn)窯主體51上的Ⅰ組托圈44架設(shè)在Ⅰ組頂輪43上；

同理，Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)50上固定設(shè)置Ⅱ組擋輪和Ⅱ組頂輪48，套設(shè)在回轉(zhuǎn)窯主體51上的Ⅱ組

托圈49架設(shè)在Ⅱ組頂輪48上。Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)50上還設(shè)有回轉(zhuǎn)窯的主驅(qū)動47，主驅(qū)動47上的

傳動齒輪46與回轉(zhuǎn)窯主體51上的齒圈45構(gòu)成傳動結(jié)構(gòu)。

[0046] 研究表明，在實際運行過程中導(dǎo)致回轉(zhuǎn)窯重心動態(tài)變化，使回轉(zhuǎn)窯主體51產(chǎn)生上下竄動的因素包括：(1)傾斜布置及齒圈45和頂輪接觸區(qū)域周向彈性滑動因素，運行中的回

轉(zhuǎn)窯向低位點滑動；(2)回轉(zhuǎn)窯托圈與頂輪接觸面磨損，導(dǎo)致軸向摩擦力變化，(3)焙燒過程

中不可避免的粉末入窯發(fā)生的窯內(nèi)結(jié)瘤現(xiàn)象。窯位變化的趨勢為：當(dāng)托圈與頂輪之間的摩

擦力增大時，回轉(zhuǎn)窯窯位向窯尾方向(進料口方向，圖2的右側(cè))上行；當(dāng)托圈與頂輪之間的

摩擦力變小時，回轉(zhuǎn)窯窯位向窯頭方向(出料口方向，圖2的左側(cè))下行。

[0047] 因此，本實施例提供的調(diào)整裝置的控制原理為：通過測距組件2測量連續(xù)測量Ⅱ組托圈49與測量標(biāo)定點之間的距離d的信號；其中，標(biāo)定點是預(yù)設(shè)設(shè)置的表征窯位的測量標(biāo)定

點，當(dāng)回轉(zhuǎn)窯旋轉(zhuǎn)過程中因自重以及重心變化引起的回轉(zhuǎn)窯主體51沿旋轉(zhuǎn)軸方向竄動時，

測得的d值產(chǎn)生變化，d值變大說明窯位下行，d值變小說明窯位上行；測距元件將測得的d值

信號實時傳輸至控制組件3進行處理，控制組件3根據(jù)實時的d值和控制邏輯，當(dāng)d值在第一

預(yù)設(shè)范圍時，控制調(diào)整組件1發(fā)出控制信號，打開第二控制閥16，在Ⅱ組頂輪48和Ⅱ組托圈

49之間添加潤滑劑，以減小摩擦系數(shù)，控制窯位下行；當(dāng)d值在第二預(yù)設(shè)范圍時，控制組件3

發(fā)出控制信號，打開第一控制閥13，控制調(diào)整組件1在Ⅱ組頂輪48和Ⅱ組托圈49之間添加摩

擦劑，以增大摩擦系數(shù)，控制窯位上行；其中，第二預(yù)設(shè)范圍中的值大于第一預(yù)設(shè)范圍中的

值，d在第一預(yù)設(shè)范圍表示當(dāng)前窯位較高，需要控制窯位下行；d在第二預(yù)設(shè)范圍表示當(dāng)前窯

位較低，需要控制窯位上行。通過根據(jù)窯位確定添加摩擦劑或潤滑劑的結(jié)合，可實時將窯位

保持在正常運行的目標(biāo)范圍內(nèi)。

[0048] 調(diào)整組件1中的摩擦劑單元11是用于儲供摩擦劑的容器，潤滑劑單元14是用于儲供潤滑劑的容器。潤滑劑輸運管路15和摩擦劑輸運管路12的出口設(shè)置在回轉(zhuǎn)窯頂輪軸承座

上緣，能夠完成向回轉(zhuǎn)窯托圈與頂輪之間添加摩擦劑或潤滑劑的工作?？蛇x的，還可在摩擦

劑單元11或潤滑劑單元14上設(shè)置智能儀表，監(jiān)控摩擦劑或潤滑劑參數(shù)。

[0049] 需要注意的是，本實施例中的調(diào)整組件1是設(shè)置在Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)50上，對Ⅱ組頂輪48和Ⅱ組托圈49之間的摩擦系數(shù)進行調(diào)整；實際上，也可將調(diào)整組件1設(shè)置在Ⅰ組頂輪基礎(chǔ)

41上，對Ⅰ組頂輪43和Ⅰ組托圈44之間的摩擦系數(shù)進行調(diào)整。本實施例之所以設(shè)置在Ⅱ組頂

輪基礎(chǔ)50上，是因為實踐表明對Ⅱ組頂輪48和Ⅱ組托圈49的調(diào)整，可將窯位更快速的調(diào)整

至目標(biāo)范圍。

[0050] 實際應(yīng)用時，測距組件2可以安裝在調(diào)整組件1上，也可以安裝在Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)50，即回轉(zhuǎn)窯抗震基礎(chǔ)上?？蛇x的，測距組件2可使用非接觸測距元件，如激光測距元件，圖像測

距元件、超聲波測距元件，磁學(xué)測距元件等。

[0051] 控制組件3可使用數(shù)字控制單元，可接入二級系統(tǒng)的PLC數(shù)字控制單元進行編程邏輯控制。

[0052] 可選的，第一控制閥13和第二控制閥16均為機械控制閥門，可以采用動力閥。使用機械控制閥門的好處是當(dāng)非接觸測距元件、數(shù)字控制單元或調(diào)整裝置模塊出現(xiàn)故障或調(diào)節(jié)

失效時，可進行手動操作，實現(xiàn)緊急調(diào)整。

[0053] 在實際生產(chǎn)中可能會遇到電子控制系統(tǒng)故障，或第一控制閥13、第二控制閥16故障，或回轉(zhuǎn)窯出現(xiàn)異常劇烈竄動，此時需要人工介入進行調(diào)整。為了在上述異常情況下也可

進行手動控制，可選的，調(diào)整組件1還包括第一球形閥17和第二球形閥18；第一球形閥17通

過管路與第一控制閥13并聯(lián)，第二球形閥18通過管路與第二控制閥16并聯(lián)。設(shè)置并聯(lián)球閥

作為緊急調(diào)整機構(gòu)，提高調(diào)整裝置的可靠性，當(dāng)電子系統(tǒng)失效或檢修故障時，也可手動控制

并聯(lián)球閥進行調(diào)整，保證回轉(zhuǎn)窯位于正常位置運行。

[0054] 可選的，摩擦劑可選用固體摩擦劑，可直接使用現(xiàn)場的各種干礦粉；潤滑劑可采用固體潤滑劑或液體潤滑劑，如液體潤滑劑包括合成基礎(chǔ)油或礦物基礎(chǔ)油，固體潤滑劑包括

石墨等。

[0055] 通過大量生產(chǎn)實踐，提出了一種優(yōu)選的摩擦劑和潤滑劑：摩擦劑為石英砂；潤滑劑為二硫化鉬粉末；實踐表明采用上述材料用作摩擦劑和潤滑劑進行配合使用，能夠更準(zhǔn)確、

迅速的將窯位調(diào)整至目標(biāo)范圍。

[0056] 本實施例提供了一種回轉(zhuǎn)窯窯位的調(diào)整裝置，通過測距組件測量標(biāo)定點與回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組托圈之間的距離值，控制組件對距離值進行實時判斷，當(dāng)距離值在第一預(yù)設(shè)范圍時，

控制調(diào)整組件在Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈之間添加潤滑劑，當(dāng)距離值在第二預(yù)設(shè)范圍時，控制

調(diào)整組件在Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈之間添加摩擦劑；上述調(diào)整裝置實現(xiàn)了連續(xù)監(jiān)測窯位信

息，并根據(jù)窯位信息確定添加潤滑劑或摩擦劑，以實時調(diào)整回轉(zhuǎn)窯窯位在目標(biāo)范圍內(nèi)，從而

保證回轉(zhuǎn)窯在正常位置處工作，避免回轉(zhuǎn)窯因過度的竄動產(chǎn)生設(shè)備損傷，以及對正常生產(chǎn)

節(jié)奏的不利影響。

[0057] 基于前述實施例相同的發(fā)明構(gòu)思，在又一個可選的實施例中，提供了一種量化的窯位控制邏輯，具體如下：

[0058] 當(dāng)檢測到距離值d在第一預(yù)設(shè)范圍時，控制組件3控制第二控制閥16開啟、第一控制閥13關(guān)閉，在Ⅱ組頂輪48和Ⅱ組托圈49之間添加潤滑劑，具體包括：

[0059] 當(dāng)距離值d滿足d[0060] 當(dāng)距離值d滿足d[0061] 當(dāng)距離值d滿足d≥d0+d2時，控制組件3控制第二控制閥16關(guān)閉、第一控制閥13關(guān)閉，以使調(diào)整組件1停止添加潤滑劑；

[0062] 當(dāng)檢測到距離值d在第二預(yù)設(shè)范圍時，控制組件3控制第二控制閥16關(guān)閉、第一控制閥13開啟，在Ⅱ組頂輪48和Ⅱ組托圈49之間添加摩擦劑，具體包括：

[0063] 當(dāng)距離值d滿足d0+d2[0064] 當(dāng)距離值d滿足d≤d0+d2時，控制組件3控制第二控制閥16關(guān)閉、第一控制閥13關(guān)閉，以使調(diào)整組件1停止添加摩擦劑；

[0065] 其中，d0為回轉(zhuǎn)窯上行極限位，d1為回轉(zhuǎn)窯上行上限位，d2為回轉(zhuǎn)窯下行上限位，d3為回轉(zhuǎn)窯下行極限位。

[0066] 上述方案中的d0、d1、d2、d3是預(yù)先確定的，并預(yù)設(shè)在控制單元中的判斷值。上述過程的控制元件的判斷邏輯流程圖如圖3所示，判斷示意圖如圖4所示，具體判斷過程如下：

[0067] 當(dāng)檢測到距離值d[0068] 在距離值d逐漸增大且滿足d[0069] 當(dāng)檢測到距離值d≥d0+d2時，停止添加潤滑劑；[0070] 當(dāng)檢測到距離值d0+d2[0071] 在距離值d逐漸減小且滿足d>d0+d2的過程中，繼續(xù)添加摩擦劑，保持窯位上行；[0072] 當(dāng)檢測到距離值d≤d0+d2時，停止添加摩擦劑。[0073] 通過上述調(diào)整手段的結(jié)合，最終可使回轉(zhuǎn)窯位的運行位置限定于d0+d1＜d＜d0+d2的目標(biāo)范圍內(nèi)。

[0074] 進一步的，通過大量的生產(chǎn)實踐確定出：[0075] d0的取值范圍為500mm[0076] 基于前述實施例相同的發(fā)明構(gòu)思，在又一個可選的實施例中，還提供了一種回轉(zhuǎn)窯，回轉(zhuǎn)窯包括Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)50、Ⅱ組頂輪48和Ⅱ組托圈49，在Ⅱ組頂輪基礎(chǔ)50上設(shè)有上述

實施例中的調(diào)整裝置。

[0077] 通過本發(fā)明的一個或者多個實施例，本發(fā)明具有以下有益效果或者優(yōu)點：[0078] 本發(fā)明提供了一種回轉(zhuǎn)窯窯位的調(diào)整裝置，通過測距組件測量標(biāo)定點與回轉(zhuǎn)窯的Ⅱ組托圈之間的距離值，控制組件對距離值進行實時判斷，當(dāng)距離值在第一預(yù)設(shè)范圍時，控

制調(diào)整組件在Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈之間添加潤滑劑，當(dāng)距離值在第二預(yù)設(shè)范圍時，控制調(diào)

整組件在Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈之間添加摩擦劑；上述調(diào)整裝置實現(xiàn)了連續(xù)監(jiān)測窯位信息，

并根據(jù)窯位信息確定添加潤滑劑或摩擦劑，以實時調(diào)整回轉(zhuǎn)窯窯位在目標(biāo)范圍內(nèi)，從而保

證回轉(zhuǎn)窯在正常位置處工作，避免回轉(zhuǎn)窯因過度的竄動產(chǎn)生設(shè)備損傷，以及對正常生產(chǎn)節(jié)

奏的不利影響。

[0079] 盡管已描述了本申請的優(yōu)選實施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包

括優(yōu)選實施例以及落入本申請范圍的所有變更和修改。

[0080] 顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本申請進行各種改動和變型而不脫離本申請的精神和范圍。這樣，倘若本申請的這些修改和變型屬于本申請權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍

之內(nèi)，則本申請也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。

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