權(quán)利要求

1.一種均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，包括回轉(zhuǎn)窯本體(16)，其特征在于，還包括均勻下料裝置(20)，所述均勻下料裝置(20)包括機(jī)殼(8)，所述機(jī)殼(8)上對應(yīng)回轉(zhuǎn)窯本體(16)的焙料出口設(shè)置有聚料斗(2)，所述聚料斗(2)的底部設(shè)有出料口(22)，所述聚料斗(2)用于聚集通過回轉(zhuǎn)窯本體(16)的焙料出口排出的焙料;所述機(jī)殼(8)的內(nèi)部滑動安裝有下料斗(11)，所述下料斗(11)位于任一滑動位置時(shí)，所述出料口(22)始終與下料斗(11)上下對應(yīng)布置;所述機(jī)殼(8)上位于下料斗(11)的一側(cè)設(shè)置有驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置用于驅(qū)動下料斗(11)往復(fù)運(yùn)動。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，所述驅(qū)動裝置包括翅片輪(12)、換向輥(3)、連接桿(6);

所述翅片輪(12)轉(zhuǎn)動安裝在聚料斗(2)與下料斗(11)之間，所述翅片輪(12)上環(huán)形陣列布置有若干個(gè)翅片(121)，所述出料口(22)位于翅片輪(12)側(cè)部的上方，所述出料口(22)正下方的出料路徑與翅片(121)的旋轉(zhuǎn)路徑的豎直切線重合;

所述換向輥(3)轉(zhuǎn)動安裝在機(jī)殼(8)上，所述換向輥(3)的外側(cè)壁上設(shè)置有環(huán)繞換向輥(3)周向布置的第一正弦滑槽(31)，所述換向輥(3)的一端與翅片輪(12)傳動連接;

所述連接桿(6)滑動安裝在機(jī)殼(8)上，所述連接桿(6)一端與下料斗(11)連接，所述連接桿(6)的另一端設(shè)有第一滑塊(10)，所述第一滑塊(10)滑動設(shè)置在第一正弦滑槽(31)的內(nèi)部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，所述第一正弦滑槽(31)的波峰位于換向輥(3)的左側(cè)部，所述第一正弦滑槽(31)的波谷位于換向輥(3)的右側(cè)部，所述第一正弦滑槽(31)的波峰和波谷在換向輥(3)上相對布置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，還包括位于出料口(22)與下料斗(11)之間的下料通道(9)，所述下料通道(9)的頂部與出料口(22)接通，所述下料通道(9)的底部對應(yīng)下料斗(11)設(shè)置，所述翅片輪(12)上一側(cè)的翅片(121)位于下料通道(9)內(nèi)，所述下料通道(9)內(nèi)部預(yù)留有供翅片輪(12)與翅片(121)旋轉(zhuǎn)的空間。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，所述翅片輪(12)連接有傳動軸(13)，所述傳動軸(13)上設(shè)有第一齒輪(14);所述換向輥(3)的一端連接有第二齒輪(15)，所述第一齒輪(14)與第二齒輪(15)嚙合，所述機(jī)殼(8)上設(shè)置有齒輪室(7)，所述第一齒輪(14)和第二齒輪(15)均轉(zhuǎn)動安裝在齒輪室(7)的內(nèi)部。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，所述連接桿(6)靠近換向輥(3)的一端設(shè)有第二滑塊(5)，所述第一滑塊(10)固定安裝在第二滑塊(5)上，所述第二滑塊(5)的下方設(shè)有支撐臺(4)，所述支撐臺(4)固定安裝在機(jī)殼(8)上，所述支撐臺(4)上設(shè)有第二滑槽(41)，所述第二滑塊(5)與第二滑槽(41)滑動配合連接，所述支撐臺(4)的下方設(shè)有加強(qiáng)肋板(1)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，所述機(jī)殼(8)的內(nèi)壁上設(shè)置有導(dǎo)軌(82)，所述導(dǎo)軌(82)的長度方向平行于下料斗(11)的滑動方向，所述下料斗(11)的側(cè)部設(shè)有第三滑塊(111)，所述導(dǎo)軌與第三滑塊(111)滑動配合連接;所述機(jī)殼(8)內(nèi)壁上固定安裝有擋條(83)，所述擋條(83)的上表面的高度沿機(jī)殼(8)內(nèi)壁指向機(jī)殼(8)內(nèi)部的方向逐漸降低，所述導(dǎo)軌(82)和第三滑塊(111)位于擋條(83)正下方的空間內(nèi)。

8.一種鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒系統(tǒng)，包括權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，還包括預(yù)熱器(19)和篦冷機(jī)(17)，所述預(yù)熱器(19)的焙料出口接通回轉(zhuǎn)窯本體(16)的焙料入口，所述回轉(zhuǎn)窯本體(16)的焙料出口接通均勻下料裝置(20)的焙料入口，所述均勻下料裝置(20)的焙料出口接通篦冷機(jī)(17)的焙料入口。

9.一種鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒方法，采用權(quán)利要求8所述的鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S1.通過預(yù)熱器(19)對鋰輝石物料進(jìn)行預(yù)熱，預(yù)熱后將鋰輝石物料投入至回轉(zhuǎn)窯本體(16)內(nèi)部，通過回轉(zhuǎn)窯本體(16)對鋰輝石物料進(jìn)行轉(zhuǎn)型焙燒;

步驟S2.鋰輝石物料經(jīng)過回轉(zhuǎn)窯本體(16)的轉(zhuǎn)型焙燒后形成焙料，將焙料投入至均勻下料裝置(20)內(nèi)，通過聚料斗(2)將焙料中的粗料和細(xì)料聚集到一起后集中投入到下料斗(11)內(nèi);

步驟S3.焙料進(jìn)入到下料斗(11)內(nèi)，通過驅(qū)動裝置帶動下料斗(11)在水平方向往復(fù)運(yùn)動，以將焙料均勻的灑到篦冷機(jī)(17)內(nèi)的固定篦板(18)上;

步驟S4.通過篦冷機(jī)(17)對焙料進(jìn)行冷卻處理。

說明書

技術(shù)領(lǐng)域

[0001]本發(fā)明涉及鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒及冷卻領(lǐng)域，具體為一種均勻下料的回轉(zhuǎn)窯、鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒系統(tǒng)及焙燒方法。

背景技術(shù)

[0002]在鋰輝石提鋰工藝中，需要先將鋰輝石投入到回轉(zhuǎn)窯中，進(jìn)行高溫焙燒，使天然存在的、化學(xué)惰性大的α鋰輝石轉(zhuǎn)型為能與酸堿反應(yīng)的β鋰輝石，進(jìn)而β鋰輝石在后面工序與硫酸發(fā)生酸化反應(yīng)，生成可溶性硫酸鋰。

[0003]從回轉(zhuǎn)窯完成轉(zhuǎn)型的鋰輝石焙料溫度較高，需要投入篦冷機(jī)進(jìn)行冷卻，然而在實(shí)際生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)，由于回轉(zhuǎn)窯工作時(shí)處于旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，鋰輝石焙料離開回轉(zhuǎn)窯時(shí)會受到離心力、重力以及慣性的作用，其中大粒徑的焙料會受到較大的作用力而被甩至離回轉(zhuǎn)窯下方較遠(yuǎn)的位置處，小粒徑的焙料則會落到離回轉(zhuǎn)窯下方較近的位置處。大粒徑的粗料之間的間隙較大，冷卻風(fēng)可以輕松穿過從而冷卻粗料，小粒徑的細(xì)料之間的間隙小而使冷卻風(fēng)難以穿過，隨著細(xì)料越落越多該處篦板的透風(fēng)性也越來越差，因此該處的細(xì)料堆積使該處溫度較高難以冷卻，影響到焙料的整體冷卻質(zhì)量，當(dāng)溫度過高時(shí)甚至?xí)龎脑撎幍捏靼濉?

[0004]針對篦冷機(jī)上細(xì)料堆積而使冷卻風(fēng)難以通過的缺陷，中國實(shí)用新型專利CN214792578U公開了一種篦冷機(jī)的分區(qū)供風(fēng)固定床，包括若干個(gè)平行并列設(shè)置的斜坡支架，所述斜坡支架的上側(cè)設(shè)有固定篦板組，所述斜坡支架的下側(cè)的兩端分別垂直連接有支撐橫梁，所述支撐橫梁的下側(cè)連接有立柱;所述固定篦板組包括細(xì)料區(qū)、粗料區(qū)、中間區(qū)，所述細(xì)料區(qū)、所述粗料區(qū)、所述中間區(qū)的下方分別連接第一風(fēng)管、第二風(fēng)管、第三風(fēng)管;所述固定篦板組包括多個(gè)篦板塊，位于所述細(xì)料區(qū)、所述粗料區(qū)內(nèi)的每個(gè)篦板塊的下側(cè)均設(shè)有調(diào)節(jié)閥;該發(fā)明將篦冷機(jī)固定床分成三個(gè)區(qū)域，根據(jù)熟料在篦冷機(jī)固定床離析情況，針對性的按粗細(xì)料施以不同的冷卻風(fēng)量，以提高焙料整體的冷卻效率，但其并未解決細(xì)料堆積的問題，導(dǎo)致焙料冷卻過程中依舊存在細(xì)料堆積使得細(xì)料處的冷卻風(fēng)難以通過的問題，因此僅僅增大風(fēng)量冷卻細(xì)料的效果依然不佳。

[0005]綜上所述，針對現(xiàn)有的鋰輝石焙燒過程中粗料與細(xì)料分布不均勻、細(xì)料容易堆積導(dǎo)致冷卻通風(fēng)效果不佳的缺陷，本發(fā)明公開了一種均勻下料的回轉(zhuǎn)窯、鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒系統(tǒng)及焙燒方法。

發(fā)明內(nèi)容

[0006]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，具體技術(shù)方案如下：其包括回轉(zhuǎn)窯本體，還包括均勻下料裝置，所述均勻下料裝置包括機(jī)殼，所述機(jī)殼上對應(yīng)回轉(zhuǎn)窯本體的焙料出口設(shè)置有聚料斗，所述聚料斗的底部設(shè)有出料口，所述聚料斗用于聚集通過回轉(zhuǎn)窯本體的焙料出口排出的焙料;所述機(jī)殼的內(nèi)部滑動安裝有下料斗，所述下料斗位于任一滑動位置時(shí)，所述出料口始終與下料斗上下對應(yīng)布置;所述機(jī)殼上位于下料斗的一側(cè)設(shè)置有驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置用于驅(qū)動下料斗往復(fù)運(yùn)動。

[0007]所述均勻下料裝置安裝在回轉(zhuǎn)窯本體的窯頭罩的焙料出口與篦冷機(jī)的進(jìn)料口之間，回轉(zhuǎn)窯本體落下的焙料落入到聚料斗內(nèi)，即聚料斗將粗料與細(xì)料聚集到一起，然后焙料從出料口落下進(jìn)入到下料斗內(nèi)，下料斗在篦冷機(jī)固定篦板的寬度方向上往復(fù)運(yùn)動將焙料均勻的灑到篦冷機(jī)的篦板上，因此避免了篦冷機(jī)篦板上粗料和細(xì)料的堆積，篦冷機(jī)也無需分區(qū)供風(fēng)，使冷卻風(fēng)可以均勻的冷卻焙料，提高了焙料的冷卻效率。

[0008]進(jìn)一步地，所述驅(qū)動裝置包括翅片輪、換向輥和連接桿;

所述翅片輪轉(zhuǎn)動安裝在聚料斗與下料斗之間，所述翅片輪上環(huán)形陣列布置有若干個(gè)翅片，所述出料口位于翅片輪側(cè)部的上方，所述出料口正下方的出料路徑與翅片輪上翅片的旋轉(zhuǎn)路徑的豎直切線重合;

所述換向輥轉(zhuǎn)動安裝在機(jī)殼上，所述換向輥的外側(cè)壁上設(shè)置有環(huán)繞換向輥周向布置的第一正弦滑槽，所述換向輥的一端與翅片輪傳動連接;

所述連接桿滑動安裝在機(jī)殼上，所述連接桿一端與下料斗連接，所述連接桿的另一端設(shè)有第一滑塊，所述第一滑塊滑動設(shè)置在第一正弦滑槽的內(nèi)部。

[0009]回轉(zhuǎn)窯本體出料時(shí)，焙料連續(xù)落下會落到翅片輪的翅片上而使翅片輪旋轉(zhuǎn)，翅片輪旋轉(zhuǎn)驅(qū)動換向輥旋轉(zhuǎn)，換向輥旋轉(zhuǎn)時(shí)通過第一正弦滑槽和第一滑塊的配合，驅(qū)使連接桿帶動下料斗在篦冷機(jī)固定篦板的寬度方向上往復(fù)運(yùn)動，即均勻下料的回轉(zhuǎn)窯本體工作時(shí)無需動力源，當(dāng)焙料從回轉(zhuǎn)窯本體中落下時(shí)即可自動運(yùn)行。

[0010]進(jìn)一步地，所述第一正弦滑槽的波峰位于換向輥的左側(cè)部，所述第一正弦滑槽的波谷位于換向輥的右側(cè)部，所述第一正弦滑槽的波峰和波谷在換向輥上相對布置。

[0011]進(jìn)一步地，還包括位于出料口與下料斗之間的下料通道，所述下料通道的頂部與出料口接通，所述下料通道的底部對應(yīng)下料斗設(shè)置，所述翅片輪上一側(cè)的翅片位于下料通道內(nèi)，所述下料通道內(nèi)部預(yù)留有供翅片輪旋轉(zhuǎn)的空間。

[0012]進(jìn)一步地，所述翅片輪連接有傳動軸，所述傳動軸上設(shè)有第一齒輪;所述換向輥的一端連接有第二齒輪，所述第一齒輪與第二齒輪嚙合，所述機(jī)殼上設(shè)置有齒輪室，所述第一齒輪和第二齒輪均轉(zhuǎn)動安裝在齒輪室的內(nèi)部。

[0013]進(jìn)一步地，所述連接桿靠近換向輥的一端設(shè)有第二滑塊，所述第一滑塊固定安裝在第二滑塊上，所述第二滑塊的下方設(shè)有支撐臺，所述支撐臺固定安裝在機(jī)殼上，所述支撐臺上設(shè)有第二滑槽，所述第二滑塊與第二滑槽滑動配合連接，所述支撐臺下方設(shè)有加強(qiáng)肋板。

[0014]進(jìn)一步地，所述機(jī)殼的內(nèi)壁上設(shè)置有導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌的長度方向平行于下料斗的滑動方向，所述下料斗的側(cè)部設(shè)有第三滑塊，所述導(dǎo)軌與第三滑塊滑動配合連接;所述機(jī)殼內(nèi)壁上固定安裝有擋條，所述擋條的上表面的高度沿機(jī)殼內(nèi)壁指向機(jī)殼內(nèi)部的方向逐漸降低，所述導(dǎo)軌和第三滑塊位于擋條正下方的空間內(nèi)。

[0015]本發(fā)明還公開了一種采用上述均勻下料的回轉(zhuǎn)窯的鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒系統(tǒng)，其包括預(yù)熱器和篦冷機(jī)，所述預(yù)熱器的焙料出口接通回轉(zhuǎn)窯本體的焙料入口，所述回轉(zhuǎn)窯本體的焙料出口接通均勻下料裝置的焙料入口，所述均勻下料裝置的焙料出口接通篦冷機(jī)的焙料入口;

所述均勻下料裝置包括：

機(jī)殼;

聚料斗，聚料斗安裝在機(jī)殼上，聚料斗的下部設(shè)有出料口，聚料斗用于將離開回轉(zhuǎn)窯本體的焙料聚集到一起;

下料斗，下料斗安裝在聚料斗的下方，下料斗滑動安裝在機(jī)殼內(nèi)，下料斗位于任一滑動位置時(shí)，出料口始終與下料斗上下對接布置;

驅(qū)動裝置，驅(qū)動裝置安裝在機(jī)殼上，驅(qū)動裝置用于驅(qū)動下料斗往復(fù)運(yùn)動。

[0016]本發(fā)明還公開了一種采用上述鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒系統(tǒng)的鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒方法，其包括如下步驟：

步驟S1.通過預(yù)熱器對鋰輝石物料進(jìn)行預(yù)熱，預(yù)熱后將鋰輝石物料投入至回轉(zhuǎn)窯本體內(nèi)部，通過回轉(zhuǎn)窯本體對鋰輝石物料進(jìn)行轉(zhuǎn)型焙燒;

步驟S2.鋰輝石物料經(jīng)過回轉(zhuǎn)窯本體的轉(zhuǎn)型焙燒后形成焙料，將焙料投入至均勻下料裝置內(nèi)，通過聚料斗將焙料中的粗料和細(xì)料聚集到一起后集中投入到下料斗內(nèi);

步驟S3.焙料進(jìn)入到下料斗內(nèi)，通過驅(qū)動裝置帶動下料斗在水平方向往復(fù)運(yùn)動，以將焙料均勻的灑到篦冷機(jī)內(nèi)的固定篦板上;

步驟S4.通過篦冷機(jī)對焙料進(jìn)行冷卻處理。

[0017]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)及有益效果：

1、本發(fā)明公開了一種均勻下料的回轉(zhuǎn)窯、鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒系統(tǒng)及鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒方法，將均勻下料裝置安裝在回轉(zhuǎn)窯本體的窯頭罩的焙料出口與篦冷機(jī)的進(jìn)料口之間，回轉(zhuǎn)窯本體均勻落下的焙料落入到聚料斗內(nèi)，聚料斗將焙料中的粗料與細(xì)料聚集到一起，然后焙料從出料口落下進(jìn)入到下料斗內(nèi)，通過下料斗在篦冷機(jī)篦板的寬度方向上往復(fù)運(yùn)動將焙料均勻的灑到篦冷機(jī)的篦板上，避免了篦冷機(jī)篦板上粗料和細(xì)料的堆積，篦冷機(jī)也無需分區(qū)供風(fēng)，使冷卻風(fēng)可以均勻地冷卻焙料，提高了焙料的冷卻效率。

[0018]2、本發(fā)明公開的均勻下料裝置在使用時(shí)，焙料連續(xù)落到翅片輪的翅片上從而使翅片輪持續(xù)旋轉(zhuǎn)，翅片輪旋轉(zhuǎn)驅(qū)動換向輥旋轉(zhuǎn)，換向輥旋轉(zhuǎn)時(shí)通過第一正弦滑槽和第一滑塊的配合使連接桿帶動下料斗往復(fù)運(yùn)動，即本發(fā)明公開的均勻下料裝置在工作時(shí)無需額外配置動力源，當(dāng)焙料從回轉(zhuǎn)窯本體落下時(shí)即可自動運(yùn)行，當(dāng)無焙料落下時(shí)即自動停止，簡單可控且節(jié)能環(huán)保;并且通過翅片輪帶動翅片轉(zhuǎn)動，能夠?qū)⒌袈涞拇至吓c細(xì)料打散，避免粗料與細(xì)料結(jié)塊，進(jìn)而保證后續(xù)能夠通過下料斗將焙料更加均勻的鋪灑到篦冷機(jī)的篦板上。

附圖說明

[0019]圖1為均勻下料裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為均勻下料裝置的主視圖;

圖3為均勻下料裝置的剖視示意圖;

圖4為圖2中A-A向的剖視圖;

圖5為均勻下料裝置內(nèi)部的驅(qū)動裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖6為下料斗滑動至右側(cè)時(shí)的工作原理示意圖;

圖7為下料斗滑動至中間位置時(shí)的工作原理示意圖;

圖8為下料斗滑動至左側(cè)時(shí)的工作原理示意圖;

圖9為鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒系統(tǒng)的示意圖。

[0020]其中：1-加強(qiáng)肋板;2-聚料斗;21-第一安裝孔;22-出料口;3-換向輥;31-第一正弦滑槽;4-支撐臺;41-第二滑槽;5-第二滑塊;6-連接桿;7-齒輪室;8-機(jī)殼;81-第二安裝孔;82-導(dǎo)軌;83-擋條;9-下料通道;10-第一滑塊;11-下料斗;111-第三滑塊;112-第二出料口;12-翅片輪;121-翅片;13-傳動軸;14-第一齒輪;15-第二齒輪;16-回轉(zhuǎn)窯本體;17-篦冷機(jī);18-固定篦板;19-預(yù)熱器;20-均勻下料裝置;23-供風(fēng)裝置。

具體實(shí)施方式

[0021]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步地描述。下面介紹的是本發(fā)明的多個(gè)可能實(shí)施例中的較優(yōu)的一個(gè)，以供對本發(fā)明的基本了解，但并不旨在確認(rèn)本發(fā)明的關(guān)鍵或決定性的要素或限定所要保護(hù)的范圍。

[0022]在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接;可以是機(jī)械連接，也可以是電連接;可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

[0023]下面結(jié)合附圖并結(jié)合具體的實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步地詳細(xì)說明，但本發(fā)明的實(shí)施方式不限于此。

[0024]請參閱圖1~5，本實(shí)施例公開了一種均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其包括：

回轉(zhuǎn)窯本體16、均勻下料裝置20;

均勻下料裝置20包括：

機(jī)殼8，機(jī)殼8對應(yīng)回轉(zhuǎn)窯本體16的焙料出口設(shè)置;

聚料斗2，聚料斗2安裝在機(jī)殼8上，聚料斗2的底部設(shè)有出料口22，聚料斗2用于將離開回轉(zhuǎn)窯本體16的焙料聚集到一起，此處所述的焙料包括粗料與細(xì)料;

下料斗11，下料斗11位于聚料斗2的下方，且下料斗11滑動安裝在機(jī)殼8內(nèi)，下料斗11位于任一滑動位置時(shí)，出料口22始終與下料斗11上下對接布置，即無論下料斗11滑動至任意位置，下料斗11的頂部開口始終能夠完全承接通過出料口22落下的焙料。

[0025]驅(qū)動裝置，驅(qū)動裝置安裝在機(jī)殼8上，驅(qū)動裝置用于驅(qū)動下料斗11往復(fù)運(yùn)動。

[0026]所述均勻下料裝置20安裝在回轉(zhuǎn)窯本體16的窯頭罩的焙料出口與篦冷機(jī)17的進(jìn)料口之間，回轉(zhuǎn)窯本體16落下的焙料落入到聚料斗2內(nèi)，即聚料斗2將粗料與細(xì)料聚集到一起，然后焙料從出料口22落下進(jìn)入到下料斗11內(nèi)，下料斗11在篦冷機(jī)篦板的寬度方向上往復(fù)運(yùn)動，在混合粗料與細(xì)料的同時(shí)，將焙料均勻的灑到篦冷機(jī)17的篦板上，避免了篦冷機(jī)17的篦板上粗料和細(xì)料堆積，在篦冷機(jī)無需分區(qū)供風(fēng)的前提下，保證冷卻風(fēng)可以均勻的冷卻焙料，提高了焙料的冷卻效率。

[0027]更具體地，本實(shí)施例中的驅(qū)動裝置包括翅片輪12、換向輥3和連接桿6;

所述翅片輪12轉(zhuǎn)動安裝在聚料斗2與下料斗11之間，翅片輪12上環(huán)形陣列布置有若干個(gè)翅片121，出料口22位于翅片輪12側(cè)部的上方，翅片輪12上翅片121的旋轉(zhuǎn)路徑與出料口22正下方的空間重合，使焙料下落時(shí)沿著翅片121旋轉(zhuǎn)路徑的豎直切線方向落到翅片121上從而驅(qū)動翅片輪12旋轉(zhuǎn);

換向輥3轉(zhuǎn)動安裝在機(jī)殼上，換向輥3的外側(cè)壁上設(shè)置有環(huán)繞換向輥3周側(cè)布置的第一正弦滑槽31，第一正弦滑槽31的左側(cè)為波峰，波峰位于換向輥3的左側(cè)部。第一正弦滑槽31的右側(cè)為波谷，波谷位于換向輥3的右側(cè)部，第一正弦滑槽31的波峰和波谷在換向輥3上相對布置，換向輥3的一端通過連接軸與翅片輪12的一端傳動連接;

連接桿6滑動安裝在機(jī)殼8上，連接桿6一端與下料斗11頂部的一側(cè)連接，連接桿6的另一端設(shè)有第一滑塊10，第一滑塊10位于第一正弦滑槽31內(nèi)，并與第一正弦滑槽31滑動配合連接。

[0028]回轉(zhuǎn)窯本體16出料時(shí)，焙料連續(xù)落下會落到翅片輪12的翅片121上而使翅片輪12旋轉(zhuǎn)，翅片輪12旋轉(zhuǎn)驅(qū)動換向輥3旋轉(zhuǎn)，換向輥3旋轉(zhuǎn)時(shí)通過第一正弦滑槽31和第一滑塊10的滑動配合，使第一滑塊10帶動連接桿6、下料斗11往復(fù)運(yùn)動，即本實(shí)施例的均勻下料裝置20在工作時(shí)無需額外配置動力源，當(dāng)焙料從回轉(zhuǎn)窯本體16落下時(shí)即可自動運(yùn)行。

[0029]更具體地，本實(shí)施例的均勻下料裝置還包括下料通道9，下料通道9的上部與出料口22接通，下料通道9的下部通向下料斗11，翅片輪12上一側(cè)的翅片121位于下料通道9內(nèi)，下料通道9靠近翅片輪12一側(cè)的側(cè)壁上留有供翅片輪12與翅片121旋轉(zhuǎn)的空間，避免發(fā)生干涉。下料通道9用于使出料口22落下的焙料盡可能都作用到翅片121上，以便驅(qū)動翅片輪12旋轉(zhuǎn)并且提供穩(wěn)定的動力。翅片輪12連接有傳動軸13，傳動軸13上設(shè)有第一齒輪14;換向輥3連接有第二齒輪15，第一齒輪14與第二齒輪15嚙合，機(jī)殼8上設(shè)置有齒輪室7，第一齒輪14和第二齒輪15均轉(zhuǎn)動安裝在齒輪室7內(nèi)。通過齒輪室7和機(jī)殼8的設(shè)計(jì)使部分傳動結(jié)構(gòu)與焙料所在的空間隔開，避免顆粒、粉塵焙料污染到傳動結(jié)構(gòu)而影響其正常運(yùn)行。

[0030]更具體地，連接桿6的一端設(shè)有第二滑塊5，第一滑塊10固定安裝在第二滑塊5上，第二滑塊5的下方設(shè)有支撐臺4，支撐臺4固定安裝在機(jī)殼8上，支撐臺4上設(shè)有第二滑槽41，第二滑塊5位于第二滑槽41內(nèi)，第二滑塊5與第二滑槽41滑動配合，支撐臺4下方設(shè)有加強(qiáng)肋板1。機(jī)殼8內(nèi)壁上設(shè)置有導(dǎo)軌82，導(dǎo)軌82的長度方向與下料斗11的滑動方向相同，下料斗11的側(cè)部設(shè)有第三滑塊111，導(dǎo)軌82與第三滑塊111配合連接，機(jī)殼8內(nèi)壁上固定安裝有擋條83，擋條83上表面的高度由機(jī)殼內(nèi)壁向內(nèi)的方向逐漸降低，導(dǎo)軌82和第三滑塊111位于擋條83正下方的空間內(nèi)，擋條83可避免焙料落到第三滑塊111和導(dǎo)軌82上，影響第三滑塊111和導(dǎo)軌82正常的滑動配合。

[0031]由于剛離開回轉(zhuǎn)窯的焙料溫度較高，因此本實(shí)施例中的聚料斗2、下料通道9、翅片輪12、翅片121、下料斗11等與焙料直接接觸的部件可采用耐高溫合金或者陶瓷制成，如可以采用碳化硅陶瓷材質(zhì)，其最高可耐受1800℃的高溫，亦可涂覆耐高溫隔層。聚料斗2上設(shè)置有第一安裝孔21，機(jī)殼8上設(shè)置有第二安裝孔81，以便于將均勻下料裝置20安裝到回轉(zhuǎn)窯本體16或篦冷機(jī)17之間。

[0032]請參閱圖9，本發(fā)明的實(shí)施例還提供了一種采用上述均勻下料的回轉(zhuǎn)窯的鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒系統(tǒng)，其還包括預(yù)熱器19、篦冷機(jī)17，所述預(yù)熱器19的焙料出口接通回轉(zhuǎn)窯本體16的焙料入口，所述回轉(zhuǎn)窯本體16的焙料出口接通均勻下料裝置20的焙料入口，均勻下料裝置20的焙料出口接通篦冷機(jī)17的焙料入口;通過供風(fēng)裝置23向篦冷機(jī)17內(nèi)提供冷卻風(fēng);

所述均勻下料裝置20包括：

機(jī)殼8;

聚料斗2，聚料斗2安裝在機(jī)殼8上，聚料斗2的下部設(shè)有出料口22，聚料斗2用于將離開回轉(zhuǎn)窯本體16的焙料聚集到一起;

下料斗11，下料斗11安裝在聚料斗2的下方，下料斗11滑動安裝在機(jī)殼8內(nèi)，下料斗11位于任一滑動位置時(shí)，出料口22始終與下料斗11上下對接布置;

驅(qū)動裝置，驅(qū)動裝置安裝在機(jī)殼8上，驅(qū)動裝置用于驅(qū)動下料斗11往復(fù)運(yùn)動。

[0033]本發(fā)明的實(shí)施例還提供了一種采用上述鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒系統(tǒng)的鋰輝石轉(zhuǎn)型焙燒方法，其包括如下步驟：

步驟S1.通過預(yù)熱器19對鋰輝石物料進(jìn)行預(yù)熱，預(yù)熱后將鋰輝石物料投入至回轉(zhuǎn)窯本體16內(nèi)部，通過回轉(zhuǎn)窯本體16對鋰輝石物料進(jìn)行轉(zhuǎn)型焙燒;

步驟S2.鋰輝石物料經(jīng)過回轉(zhuǎn)窯本體16的轉(zhuǎn)型焙燒后形成焙料，將焙料投入至均勻下料裝置20內(nèi)，通過聚料斗2將焙料中的粗料和細(xì)料聚集到一起后集中投入到下料斗11內(nèi);

步驟S3.焙料進(jìn)入到下料斗11內(nèi)，通過驅(qū)動裝置帶動下料斗11在水平方向往復(fù)運(yùn)動，以將焙料均勻的灑到篦冷機(jī)17內(nèi)的固定篦板18上;

步驟S4.通過篦冷機(jī)17對焙料進(jìn)行冷卻處理。

[0034]上述步驟中，均勻下料裝置的具體運(yùn)行步驟及原理如下：

請參閱圖1~8，鋰輝石在旋轉(zhuǎn)的回轉(zhuǎn)窯本體16內(nèi)經(jīng)過焙燒后形成焙料，焙料離開回轉(zhuǎn)窯本體16時(shí)，其中粒徑較大的焙料受到的離心力、重力和慣性的作用較大而被甩至偏離回轉(zhuǎn)窯本體16的下方，焙料中粒徑較小的焙料受到的離心力、重力和慣性的作用較小可直接從回轉(zhuǎn)窯本體16落下，本發(fā)明實(shí)施例中聚料斗2即直接將大粒徑焙料與小粒徑焙料聚攏到一起形成混合的焙料，混合的焙料依次經(jīng)過出料口22和下料通道9，混合的焙料通過下料通道9時(shí)與翅片輪12上的翅片121接觸，翅片121受到混合的焙料的作用而帶動翅片輪12開始旋轉(zhuǎn);

翅片輪12旋轉(zhuǎn)依次帶動傳動軸13、第一齒輪14、第二齒輪15和換向輥3旋轉(zhuǎn)，換向輥3旋轉(zhuǎn)時(shí)其側(cè)壁上的第一正弦滑槽31驅(qū)動其內(nèi)部的第一滑塊10在波峰與波谷之間往復(fù)運(yùn)動，第一滑塊10沿著第一正弦滑槽31滑動實(shí)現(xiàn)第一滑塊10在水平方向上的往復(fù)運(yùn)動;

第一滑塊10通過驅(qū)動第二滑塊5和連接桿6，最終驅(qū)動下料斗11在水平方向上沿著篦冷機(jī)17上固定篦板18的寬度方向往復(fù)運(yùn)動;

請參閱圖6，當(dāng)下料斗11運(yùn)動至右極限位置時(shí)，下料通道9從下料斗11的左側(cè)投入混合焙料，下料斗11將混合焙料灑在篦冷機(jī)17上固定篦板18的右側(cè);

請參閱圖7，當(dāng)下料斗11運(yùn)動至篦冷機(jī)17的中部時(shí)，下料通道9從下料斗11的中部投入混合焙料，下料斗11將混合焙料灑在篦冷機(jī)17上固定篦板18的中部;

請參閱圖8，當(dāng)下料斗11運(yùn)動至左極限位置時(shí)，下料通道9從下料斗11的右側(cè)投入混合焙料，下料斗11將混合焙料灑在篦冷機(jī)17上固定篦板18的左側(cè)。

[0035]下料斗11即以上述方式將混合焙料均勻的鋪在篦冷機(jī)17的固定篦板18上，避免了細(xì)料堆積導(dǎo)致的通風(fēng)不暢、冷卻效果差、局部溫度過高而損壞固定篦板18的缺陷;焙料開始輸送時(shí)，焙料作用于翅片121，使下料斗11自動開始往復(fù)運(yùn)動;焙料結(jié)束輸送時(shí)，下料斗11無驅(qū)動力而停止往復(fù)運(yùn)動，使均勻下料裝置20運(yùn)行時(shí)無需額外的動力源即可自動啟停。

[0036]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

說明書附圖(9)