本發(fā)明涉及一種地質剖面圖同巖性地層間界線接觸在線檢測與消去方法,屬于地理信息技術與地質學的交叉領域。其特征是:根據已獲取的二維同巖性數組、一維地層序列數組、二維層深度數組,建立了相應的二維標志位數組,該二維標志位數組可以用來確定相同巖性但是不同層號地層間界線是否接觸,也即是該界線是否需要繪制,有效的解決了地層界線的接觸檢測,并采用單一地層線相鄰鉆孔間單獨繪制的方法繪制界線,能更精確的控制所有地層界線的顯隱。
聲明:
“地質剖面圖同巖性地層間界線接觸在線檢測與消去方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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