本發(fā)明公開(kāi)了一種新型降低電子束熔煉技術(shù)能耗的裝置與方法,屬于冶金領(lǐng)域。所述裝置包括水冷熔煉坩堝,所述水冷熔煉坩堝內(nèi)壁底部由上到下依次設(shè)有5~40mm的碳化硅襯底,0~30mm石墨襯底。由于碳化硅以及石墨的熱導(dǎo)率遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于銅材質(zhì)的熱導(dǎo)率,所以熱量在通過(guò)襯底的時(shí)候熱流密度降低了,減少了大量能量的損耗,起到了節(jié)能作用。
聲明:
“新型降低電子束熔煉技術(shù)能耗的裝置與方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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