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真空滅弧室用CuCr觸頭材料表面處理方法

995   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 14:33:13
一種真空滅弧室用CuCr觸頭材料表面處理方法,觸頭材料進(jìn)行機(jī)加工、清洗、干燥后,采用高能電子束對材料表面進(jìn)行掃描,獲得厚度約100μm的電子束重熔層,且重熔層內(nèi)Cr顆粒尺寸小于1μm。上述電子束掃描過程在真空環(huán)境下進(jìn)行,真空度<0.1Pa,電子束掃描頻率為350-450HZ,電壓55-65KV,電流60-70mA。由于經(jīng)電子束掃描后,觸頭材料表面的晶粒明顯細(xì)化,因此其物理機(jī)械性能及電性能均有很大程度改善。
聲明:
“真空滅弧室用CuCr觸頭材料表面處理方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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