本實(shí)用新型公開了一種高真空熔煉設(shè)備,包括設(shè)備底座,所述設(shè)備底座的底部靠近四周邊角位置均連接有萬向腳輪,且設(shè)備底座的下表面靠近邊緣位置連接有支撐調(diào)節(jié)裝置,所述設(shè)備底座的上表面靠近一側(cè)位置固定安裝有
真空泵室,且設(shè)備底座的上表面靠近另一側(cè)位置固定安裝有高真空控制柜,所述真空泵室的頂部支撐有高真空腔室,所述高真空控制柜的上表面固定安裝有熔煉控制柜,所述熔煉控制柜的前表面設(shè)有控制面板,所述高真空腔室的頂部開設(shè)有排氣口,且高真空腔室的頂部連接有壓力傳感器。本實(shí)用新型所述的一種高真空熔煉設(shè)備,能夠方便對高真空熔煉設(shè)備進(jìn)行固定和移動(dòng),且能夠?qū)Ω哒婵涨皇业幕顒?dòng)門進(jìn)行鎖緊。
聲明:
“高真空熔煉設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)