本發(fā)明屬于
濕法冶金電沉積技術(shù)領(lǐng)域,本發(fā)明提供了一種采用并聯(lián)式隔膜電沉積模組制備金屬鉍的方法,甲基磺酸體系電積液由儲(chǔ)液槽經(jīng)換熱器泵至高位槽中,再由高位槽流入分配槽經(jīng)料液支管、陰極室供液管輸送至隔膜電沉積模組的陰極室;陰極室的料液經(jīng)陰極室溢流口通過(guò)陰極室排液管流至循環(huán)槽,再通過(guò)循環(huán)泵經(jīng)陽(yáng)極室供液管輸送至隔膜電沉積模組的陽(yáng)極室;陽(yáng)極室的料液經(jīng)陽(yáng)極室溢流口流至回收槽。本發(fā)明的方法通過(guò)陰離子隔膜設(shè)置和電積液流動(dòng)方式控制可避免電沉積過(guò)程中亞鐵離子在陰、陽(yáng)極之間來(lái)回遷移,導(dǎo)致電流效率大幅降低,陽(yáng)極室甲基磺酸鐵?甲基磺酸溶液可返回含鉍物料濕法浸出工序作為浸出劑循環(huán)利用。
聲明:
“采用并聯(lián)式隔膜電沉積模組制備金屬鉍的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)