本發(fā)明公開了一種陽離子選擇性隔膜的制備方法,具體涉及一種用于金屬電積精煉行業(yè)的陽離子選擇性隔膜的制備方法。本發(fā)明將納米級二氧化錳摻雜在機(jī)聚合物(聚偏氟乙烯、苯乙烯)中,經(jīng)磺化、水解引入磺酸基團(tuán)制成基膜;然后對基膜采用等離子體輻照預(yù)活化-浸泡接枝液-等離子體輻照接枝三步法引入酚基基團(tuán)制備陽離子選擇性隔膜。該膜具有選擇透過性高,尤其是對氯離子阻擋率,化學(xué)穩(wěn)定性良好,耐酸堿及氧化性,機(jī)械強(qiáng)度高的優(yōu)點。
聲明:
“陽離子選擇性隔膜的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)