本發(fā)明公開了一種電子廢棄物中錫選擇性分離同步制備納米二氧化錫的方法,該方法將含錫電子廢棄物與由二氧化錫、惰性
氧化鋁和二氧化硅組成的添加劑混勻后,置于弱氧化性氣氛下在825~950℃進行氧化焙燒,焙燒揮發(fā)物進入強氧化性氣氛中在500~700℃進行氧化焙燒,得到納米二氧化錫粉體;該方法以含錫電子廢棄物為原料在實現(xiàn)錫高效回收的同時制備出高純度納米二氧化錫粉體材料,實現(xiàn)了電子廢棄物綜合利用,獲得產(chǎn)品具備較高的經(jīng)濟價值,且該方法操作簡單、生產(chǎn)成本低、環(huán)境友好,滿足工業(yè)化生產(chǎn)要求。
聲明:
“電子廢棄物中錫選擇性分離同步制備納米二氧化錫的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)