本披露提供一種用于處理采出物質(zhì)的設(shè)備。該設(shè)備包括用于產(chǎn)生電磁輻射的一個(gè)源,和用于使該采出物質(zhì)的碎片暴露于該電磁輻射中的一個(gè)微波入口區(qū)。此外,該設(shè)備包括一個(gè)反射結(jié)構(gòu),該反射結(jié)構(gòu)鄰近該微波入口區(qū)并且提供或包圍用于將該采出物質(zhì)的這些碎片導(dǎo)引到該微波入口區(qū)上的一個(gè)通道。該反射結(jié)構(gòu)被安排成在該采出物質(zhì)的這些碎片通過(guò)過(guò)程中減弱該電磁輻射從該微波入口區(qū)向該通道中的穿透。
聲明:
“用于使用電磁輻射處理采出物質(zhì)的設(shè)備和方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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