本發(fā)明涉及一種腐銅液中銅濃度的控制方法和設(shè)備,控制方法包括:對腐銅液進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理如溫度調(diào)節(jié)、濁度控制、氧化還原電位調(diào)節(jié)、pH調(diào)節(jié)等,然后將其置于一個(gè)陰陽極區(qū)被一種膜隔離物隔離的膜-電沉積裝置中,腐銅液中的銅離子會透過膜隔離物而遷移至陰極上并以金屬銅或不溶性銅化合物的形式沉積出來;與之相關(guān)的設(shè)備包括:腐銅液預(yù)處理設(shè)備如砂濾及微濾等去除懸浮物設(shè)備、溫控設(shè)備、氧化還原電位調(diào)節(jié)設(shè)備、pH調(diào)節(jié)設(shè)備;以及銅分離設(shè)備如直流電源、陰陽極區(qū)被一種膜隔離物隔離的膜-電沉積設(shè)備等。經(jīng)過這樣的處理后可使腐銅液中的銅濃度控制在0.5-160g/L(克/升)的范圍內(nèi),從而便于其循環(huán)使用。
聲明:
“腐銅液中銅濃度的控制方法和設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)