本發(fā)明涉及一種痕量金屬離子濃度區(qū)間預測方法、裝置及存儲介質(zhì)。該方法,包括步驟:S1、基于待測液的導數(shù)光譜獲取所述待測液中痕量金屬離子的最佳建模區(qū)間,并利用所述最佳建模區(qū)間結(jié)合主成分分析法提取痕量金屬離子光譜信號特征;S2、基于支持向量機模型對所述痕量金屬離子光譜信號特征進行處理,獲得所述痕量金屬離子的濃度區(qū)間預測結(jié)果。該方法能夠準確獲知痕量離子所屬的濃度區(qū)間。所述裝置包括顯示器、處理器以及存儲在存儲器上并可在所述處理器上運行的計算機程序,所述處理器執(zhí)行所述程序時實現(xiàn)上述所述方法的步驟。所述存儲介質(zhì)其上存儲有計算機程序,所述計算機程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)上述所述方法的步驟。
聲明:
“痕量金屬離子濃度區(qū)間預測方法、裝置及存儲介質(zhì)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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