一種從蛇紋石中制備納米 SiO2的方法,針對現(xiàn)有制備納米 SiO2技術(shù)中存在一些不足之處, 導(dǎo)致納米SiO2生產(chǎn)成本高、工藝 復(fù)雜,而不利于納米SiO2規(guī)?;?生產(chǎn)。本發(fā)明采取濃鹽酸回流浸取蛇紋石礦粉,將蛇紋石中的 可溶性金屬離子浸出,剩下的固體殘?jiān)饕煞质嵌嗫?SiO2,然后分別通過采用四氟化 硅和硅酸鈉法制取納米SiO2,從 而實(shí)現(xiàn)低成本、工藝簡便地制取納米 SiO2。
聲明:
“從蛇紋石中制備納米SiO2的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)