一種以三氧化二鉀為原料,冶煉低雜金屬砷或高純金屬砷的方法。它先采用真空升華法除去原料中的雜質,特別是除去Sb和Bi,其升華爐內真空度為0.093~0.1013MPa,溫度為300~400℃,制備出低雜三氧化二砷或高純三氧化二砷,再用碳還原或氯化-氫化還原生產(chǎn)低雜金屬砷或高純金屬砷。該方法比氯化-蒸餾法除雜工藝簡單,成本低,產(chǎn)能高,對環(huán)境污染小,能生產(chǎn)對雜質含量有不同要求的特種金屬砷。
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“特種金屬砷的冶煉方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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