本發(fā)明涉及一種制備中等純度的硅的方法,其包括:通過(guò)在潛弧電爐中碳熱還原二氧化硅制備硼含量低的硅;采用氧氣或者氯氣對(duì)液態(tài)硅進(jìn)行精煉;在10-100Pa的低壓下,通過(guò)噴射中性氣體對(duì)已精煉的硅進(jìn)行處理;偏析凝固。本發(fā)明還涉及被設(shè)計(jì)用作制造電子級(jí)或者光電級(jí)硅的原材料的中等純度硅,其組成為(以重量分?jǐn)?shù)計(jì)):雜質(zhì)的總含量為100-400ppm,其中,金屬元素的含量為30-300ppm;硼含量為1-10ppm;磷/硼之比為0.5-1.5。
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