本發(fā)明提供一種
粉末冶金鉭靶用鉭粉末及鉭靶,所述鉭粉末由第一鉭粉末以及第二鉭粉末組成,所述第二鉭粉末為鈉還原鉭粉。所述鉭粉末制備得到的鉭靶氧含量低、純度高(4N以上)的優(yōu)點,平均晶粒細(xì)小均勻,織構(gòu)取向均勻,無(111)帶狀織構(gòu)。
聲明:
“粉末冶金鉭靶用鉭粉末及鉭靶” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)