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輻射管加熱無(wú)氧化輥底式爐低氧含量和低氮耗控制系統(tǒng)及方法

1103   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 14:46:02
本發(fā)明涉及冶金領(lǐng)域的爐內(nèi)氧含量和氮耗控制方法,是一種輻射管加熱無(wú)氧化輥底式爐低氧含量和低氮耗控制方法,是對(duì)輻射管加熱無(wú)氧化輥底式爐分區(qū)控制,將爐膛壓力、氧含量與充氮電磁閥門(mén)連鎖,根據(jù)每個(gè)分區(qū)的爐膛壓力和氧含量時(shí)時(shí)測(cè)量值,進(jìn)行氧稀釋和爐壓調(diào)整的動(dòng)態(tài)控制,確保爐門(mén)開(kāi)啟時(shí),爐膛內(nèi)形成一定的正壓力。同時(shí),根據(jù)熱處理工藝,合理選擇常開(kāi)充氮電磁閥門(mén)數(shù)目和位置,輻射管加熱無(wú)氧化輥底式爐實(shí)現(xiàn)了正火或回火生產(chǎn),尤其是淬火生產(chǎn)過(guò)程中超低氧含量和低氮耗控制。本發(fā)明使用最低的氮耗,顯著降低了淬火正火和回火生產(chǎn)過(guò)程中輻射管加熱無(wú)氧化輥底式爐內(nèi)氧含量。
聲明:
“輻射管加熱無(wú)氧化輥底式爐低氧含量和低氮耗控制系統(tǒng)及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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