一種純鎢或鉬薄壁器件的制備方法,屬于
粉末冶金技術(shù)領(lǐng)域。工藝步驟為:以紫銅材質(zhì)制作所需器件的模板,其表面粗糙度Ra低于6.3并保持表面清潔干燥;將模板放入氣相沉積室內(nèi),以六羰基鎢或六羰基鉬為反應(yīng)有機(jī)源,高純氫氣或氮?dú)鉃橄♂寶猓诔练e室壓力500~10000Pa、沉積溫度280~420℃條件下在模板上進(jìn)行熱解離氣相沉積,沉積過(guò)程中根據(jù)沉積壁厚要求每沉積2~4小時(shí)進(jìn)行一次退火。沉積完成后,關(guān)閉有機(jī)源閥門,繼續(xù)通入稀釋氣保持器件降至室溫。將模板表面沉積鎢或鉬的器件采用硝酸腐蝕去除紫銅模板基體,得到壁厚0.1~3mm的純鎢或鉬薄壁器件。優(yōu)點(diǎn)在于,沉積溫度低,沉積速度快,沉積膜純度高,膜層致密,膜表面的光潔度好,加工流程短,無(wú)污染,無(wú)腐蝕。
聲明:
“純鎢或鉬薄壁器件的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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