本發(fā)明公開一種表面滲鉬+沉積氮化鈦的新型電極材料及其制備方法,利用等離子表面合金化和多弧離子鍍復(fù)合處理技術(shù),首先在鐵基材料表面滲入合金元素鉬,形成呈冶金結(jié)合的含鉬滲層,然后利用濺射鍍進(jìn)行沉積氮化鈦,以形成一種表面滲鉬+沉積氮化鈦的新型電極材料。本發(fā)明采用量大面廣價(jià)格低廉的鋼鐵材料作為電極材料,具有加工性能好、導(dǎo)電性好、強(qiáng)度高、成本低的優(yōu)點(diǎn)。表面經(jīng)過(guò)滲鉬和沉積氮化鈦處理后具有耐腐蝕、耐磨、強(qiáng)度和硬度高、電阻率較小、結(jié)合力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。能大幅度提高電極的比能量與比功率,接觸電阻保持恒定,電能消耗穩(wěn)定并且較小。
聲明:
“表面滲鉬+沉積氮化鈦的新型電極材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)