目前國內(nèi)外用于制備氧化物薄膜的技術(shù)雖然各具優(yōu)點(diǎn),但大多存在成本高、工藝繁瑣、不易涂覆形狀復(fù)雜和尺寸較大的工件等一些缺點(diǎn),因此現(xiàn)有涂覆技術(shù)的推廣和應(yīng)用均受到一定程度的限制。為此,本發(fā)明提出了一種新型的
電化學(xué)沉積-熱解燒制工藝,實(shí)現(xiàn)了各種氧化物薄膜的制備。本發(fā)明不僅克服了PVD、CVD等技術(shù)的許多缺點(diǎn),而且具有工藝簡單、經(jīng)濟(jì)可靠、易于自動(dòng)化等一些優(yōu)點(diǎn);此外,本發(fā)明還適于冶金、機(jī)械、電子、光學(xué)等多種技術(shù)領(lǐng)域。
聲明:
“電化學(xué)沉積-熱解燒制氧化物薄膜的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)