本發(fā)明涉及通過PVD(物理氣相沉積)、特別是通過陰極弧蒸發(fā)制造氧化層的方法,其中粉末臺(tái)金靶被蒸發(fā),且所述
粉末冶金靶由至少兩種金屬或半金屬組分形成,選擇與所述靶相應(yīng)的金屬或半金屬組分的化學(xué)組成從而使得在從室溫到液相轉(zhuǎn)變的加熱過程中,基于所述至少兩種金屬或半金屬組分的熔融混合物的相圖,不會(huì)穿過任何純固相的相界。
聲明:
“通過弧蒸發(fā)制造金屬氧化物層的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)