本發(fā)明公開了一種ODS金屬薄膜材料的制備方法,即首次采用磁控濺射的方法,通過改變金屬靶材的結(jié)構(gòu),在Ar氣氛中將金屬基復(fù)合靶材進(jìn)行濺射、沉積,從而在基底上實現(xiàn)ODS彌散強(qiáng)化金屬薄膜材料的制備。本發(fā)明的ODS金屬薄膜制備方法一方面可有效克服傳統(tǒng)
粉末冶金等方法復(fù)雜的工藝過程和在制備過程中會出現(xiàn)氧化物團(tuán)聚、分布不均、金屬晶粒粗大等問題,另一方面可有效克服傳統(tǒng)磁控濺射制備ODS薄膜中氧化物添加不可控,且需要雙靶同時濺射等復(fù)雜工藝。實現(xiàn)具有納米量級晶粒尺寸的ODS強(qiáng)化金屬基薄膜的制備,實現(xiàn)了氧化物在金屬基材料中均勻、可控地添加。
聲明:
“ODS金屬薄膜材料的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)