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作為用于垂直磁記錄的濺射靶的具有或不具有氧化物的NI-X、NI-Y和NI-X-Y合金

930   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 14:50:25
本發(fā)明的各實(shí)施方式一般涉及用于垂直磁記錄(PMR)應(yīng)用的磁記錄介質(zhì)的種子層的沉積,其中種子層提供晶粒大小細(xì)化和為隨后沉積的底層或顆粒磁性層提供降低的晶格失配,并且其中使用鎳(NI)合金基濺射靶沉積種子層。鎳(NI)合金可以是二元(NI-X;NI-Y)或三元(NI-X-Y)。另外,二元(NI-X;NI-Y)或三元(NI-X-Y)鎳(NI)基合金可以進(jìn)一步與金屬氧化物形成合金,從而形成具有顆粒微結(jié)構(gòu)的種子層薄膜,該顆粒微結(jié)構(gòu)含有由富氧晶界包圍的金屬晶粒。各示例性實(shí)施方式的鎳基合金(具有或不具有金屬氧化物)可以通過粉末冶金技術(shù)或通過熔鑄技術(shù)制備,其采用或不采用熱-機(jī)械加工。
聲明:
“作為用于垂直磁記錄的濺射靶的具有或不具有氧化物的NI-X、NI-Y和NI-X-Y合金” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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