本發(fā)明公開了一種用于分離高錸酸根離子的溫敏性離子印跡聚合物及其制備方法和應(yīng)用,屬于
濕法冶金領(lǐng)域。該方法采用可逆加成?斷裂鏈轉(zhuǎn)移(RAFT)聚合反應(yīng)制備了溫敏性聚合物聚N,N?二乙基丙烯酰胺(PDEA),然后將其引入到分離高錸酸根離子印跡聚合物(ReO
4??IIP)合成過程中進(jìn)行二次聚合,制備了一種含溫敏性嵌段的分離高錸酸根離子的印跡聚合物。并以此為吸附載體,實(shí)現(xiàn)對(duì)含錸溶液中錸(Re)元素的精準(zhǔn)分離,極大的提高了Re的回收效率。本發(fā)明制備的含溫敏性嵌段的離子印跡聚合物載體選擇性高、吸附量大、解吸率及重復(fù)利用率高,彌補(bǔ)了傳統(tǒng)分離材料在合金濕法回收領(lǐng)域存在的短板。
聲明:
“用于分離高錸酸根離子的溫敏性離子印跡聚合物及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)