本實用新型屬于用冶金技術提純的技術領域一種電子束熔煉用石墨和涂層襯底的水冷裝置,包括水冷銅坩堝,水冷銅坩堝兩側分別安裝有進水口和出水口,水冷銅坩堝內壁放置石墨襯底,石墨襯底外沿置于水冷銅坩堝外沿之上,石墨襯底的內壁上噴涂有Si3N4涂層。本實用新型設備結構簡單,功能實用,在原有水冷銅坩堝的基礎上設置一個高純石墨襯底,并在高純石墨襯底上噴涂Si3N4涂層,從而將金屬熔液與水冷銅坩堝隔離開來,減少冷卻水帶走的熱量,能量利用率提高,成本降低,提高雜質的去除效率,Si3N4涂層將金屬熔液與石墨襯底隔離開,減少石墨中雜質對金屬的污染,有效提高其純度。
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“電子束熔煉用石墨和涂層襯底的水冷裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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