本發(fā)明公開了一種雙層采空區(qū)鉆孔探測方法。先在擬探測區(qū)域布置一定密度的探測孔,按照布孔位置鉆進(jìn),用三維激光掃描儀探測首層采空區(qū)內(nèi)部空間;利用首層采空區(qū)的探測結(jié)果,布置下層采空區(qū)的探測孔,如果首層采空區(qū)較小,則選擇采空區(qū)周圍的實體進(jìn)行鉆探;如果首層采空區(qū)較大,并且采空區(qū)內(nèi)發(fā)現(xiàn)有礦柱,則除了選擇采空區(qū)周圍的實體進(jìn)行鉆探外,還可以在礦柱中心進(jìn)行鉆探;在鉆頭到達(dá)地下二層區(qū)內(nèi),遇到采空區(qū)后拔出鉆桿,通過鉆孔向地下二層采空區(qū)放入三維激光掃描儀,對孔洞內(nèi)部空間進(jìn)行三維掃描,實現(xiàn)兩層采空區(qū)的精確探測。本發(fā)明可以解決在無需附加輔助措施的條件下,可以實現(xiàn)兩層采空區(qū)的探測等技術(shù)問題。
聲明:
“雙層采空區(qū)鉆孔探測方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)