本實(shí)用新型公開了一種電爐電極噴淋設(shè)備,主要涉及冶金行業(yè)的短流程冶煉電爐技術(shù)領(lǐng)域,包括噴淋組件,噴淋組件包括噴淋環(huán)、冷卻水管和設(shè)置在噴淋環(huán)上的多個(gè)噴淋環(huán)噴嘴,還包括氣密組件,氣密組件環(huán)繞在電極外圍,且位于噴淋組件上側(cè),多個(gè)噴淋環(huán)噴嘴具有兩種狀態(tài),第一種狀態(tài)是向電極噴淋冷卻水,第二種狀態(tài)是停止不噴淋,氣密組件在多個(gè)噴淋環(huán)噴嘴處于第二種狀態(tài)時(shí)利用壓縮空氣形成氣障將其隔離。本實(shí)用新型氣密組件利用壓縮空氣形成氣障隔離噴淋組件,噴淋組件和氣密組件通過冶煉設(shè)備的PLC控制系統(tǒng)控制自如切換,保證噴淋環(huán)噴嘴暢通,有效減緩電極的消耗,保證了安全生產(chǎn),降低了冶煉生產(chǎn)成本,整體結(jié)構(gòu)簡單,高效便捷。
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“電爐電極噴淋設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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