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用于釹鐵硼磁體的鍍膜設(shè)備

1187   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 14:51:32
本實(shí)用新型主要涉及一種用于釹鐵硼磁體的鍍膜設(shè)備,專用鍍膜設(shè)備的基本原理為雙層輝光等離子表面冶金,其主要特點(diǎn)是結(jié)構(gòu)包括真空室,真空室中部平行等距且相互絕緣的源極和陰極,源極和陰極外的隔熱柵,真空室上方的陽(yáng)極,真空室下方的氬氣入口以及真空室后方的真空系統(tǒng),真空室外的測(cè)溫系統(tǒng);表面生成的金屬膜層厚度均勻且金屬靶材的利用率高,整個(gè)鍍膜過(guò)程中溫度相對(duì)偏低,對(duì)磁體的損害較小,可控性強(qiáng),無(wú)污染,對(duì)人體無(wú)損害,設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,靶材限制性小。
聲明:
“用于釹鐵硼磁體的鍍膜設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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