本實用新型公開了一種測量管道礦漿濃度的裝置,包括探測支架、放射源和同位素濃度計,同位素濃度計設有探棒,放射源放于鉛罐內,鉛罐的底部設有射線出口,探測支架包括上板、下板、防護鉛板和連接桿,上板位于礦漿管道的上方,下板位于礦漿管道的下方,防護鉛板位于下板的下方,鉛罐擱置在上板的上表面,上板與礦漿管道之間固定有第1左支板和第1右支板,下板與礦漿管道之間固定有第2左支板和第2右支板;連接桿將上板、下板和礦漿管道固定在一起;連接桿的下方懸掛有防護鉛板,防護鉛板和下板之間留有間隙,探棒位于下板和防護鉛板之間的間隙內且位于所述射線出口的正下方。本實用新型對探棒下方的空間進行安全防護,結構簡單和成本低。
聲明:
“測量礦漿濃度的裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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