本實(shí)用新型提供一種真空燒結(jié)爐用石墨承燒底板,包括:第一平板;第二平板,與所述第一平板相互平行;支撐架,位于所述第一平板與所述第二平板之間,用于支撐、固定所述第一平板和所述第二平板,由相互垂直交錯(cuò)設(shè)置的固定板組成,所述固定板垂直于所述第一平板和所述第二平板設(shè)置。本實(shí)用新型提供的真空燒結(jié)爐用石墨承燒底板,在承載樣品的情況下依然保持優(yōu)異的平面精度,可以滿足大尺寸碳化硅陶瓷部件微小變形燒結(jié)的要求。
聲明:
“真空燒結(jié)爐用石墨承燒底板” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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