本申請(qǐng)涉及化學(xué)氣相沉積領(lǐng)域，具體而言，涉及一種立式雙溫區(qū)?雙通道化學(xué)氣相沉積設(shè)備，包括：沉積爐，沉積爐內(nèi)包括介質(zhì)容置區(qū)，介質(zhì)容置區(qū)將沉積爐的內(nèi)部腔室劃分為上加熱區(qū)和下加熱區(qū)；介質(zhì)容置區(qū)用于容置多孔介質(zhì)，多孔介質(zhì)用于沉積制備復(fù)合材料；第一加熱體，用于對(duì)上加熱區(qū)進(jìn)行加熱，以對(duì)多孔介質(zhì)面向上加熱區(qū)的一端進(jìn)行加熱；第二加熱體，用于對(duì)下加熱區(qū)進(jìn)行加熱，以對(duì)多孔介質(zhì)面向下加熱區(qū)的一端進(jìn)行加熱；其中，在沉積階段時(shí)，第一加熱體的功率不同于第二加熱體的功率，以使多孔介質(zhì)的上下兩端的溫度不同形成溫差，從而本申請(qǐng)?zhí)峁┑幕瘜W(xué)氣相沉積設(shè)備可以對(duì)多孔介質(zhì)上下兩端分別進(jìn)行致密化，從而實(shí)現(xiàn)整個(gè)多孔介質(zhì)的均勻致密。