本實(shí)用新型提供一種液態(tài)相對真空噴吹式冶煉金屬的裝置,包括真空給料系統(tǒng)、真空還原系統(tǒng)、出渣系統(tǒng)以及收集凈化系統(tǒng),其中,真空給料系統(tǒng)用于向真空還原系統(tǒng)加入爐料;真空還原系統(tǒng)用于對爐料進(jìn)行真空還原處理;其中噴槍插入真空罐內(nèi)的液態(tài)還原劑中,以氬氣為載體向液態(tài)還原劑中噴入被還原粉劑,并且使得被還原粉與液態(tài)還原劑發(fā)生還原反應(yīng)生成金屬蒸汽,并且金屬蒸汽隨所述氬氣泡逸出還原劑液面;出渣系統(tǒng)用于處理真空還原系統(tǒng)處理后的爐渣;收集凈化系統(tǒng)用于凈化收集在真空還原系統(tǒng)生成的金屬蒸汽以及非目標(biāo)金屬蒸汽。利用本實(shí)用新型,能夠解決現(xiàn)有的皮江法成本高、要求真空度較高等問題。
聲明:
“液態(tài)相對真空噴吹式冶煉金屬的裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)