本發(fā)明公開(kāi)了一種小晶粒銳鈦礦光學(xué)薄膜及其制備方法,有效抑制銳鈦礦大晶粒現(xiàn)象的技術(shù)難題,有效地提高了像增強(qiáng)器輸入窗與光電陰極界面的透過(guò)率,提高了光電陰極的光電發(fā)射效率,屬于光電探測(cè)領(lǐng)域。本發(fā)明所述小晶粒銳鈦礦光學(xué)薄膜制備在玻璃基底表面。小晶粒銳鈦礦光學(xué)薄膜由過(guò)渡層、銳鈦礦薄膜和夾層薄膜組成。銳鈦礦薄膜制備在過(guò)渡層薄膜表面,在銳鈦礦薄膜的基礎(chǔ)上制備夾層薄膜,周期性的重復(fù)銳鈦礦薄膜和夾層薄膜的制作,且表層為銳鈦礦薄膜,達(dá)到要求的厚度即完成小晶粒銳鈦礦光學(xué)薄膜制備。
聲明:
“小晶粒銳鈦礦光學(xué)薄膜、制備方法及其用途” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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