高純磷烷研制的工藝過程分為兩步,第一步為磷烷氣體的生成,即用起始原料亞磷酸生產(chǎn)出約2N純度的磷烷;第二步是采用低溫真空分離、吸附干燥、精餾和鎵-銦合金或催化劑深吸附脫水、氧。最后純度為5N5。過濾除顆粒(常見金屬)以及高純氣體灌裝,生產(chǎn)出適合我國電子行業(yè)需要的5N5高純氣體。高純磷烷分析內(nèi)容包括:痕量氧+氬、氮、總烴、一氧化碳、二氧化碳、水和砷烷雜質(zhì)分析(濃縮或DID色譜)。雜質(zhì)分析靈敏度分別為0.1~0.2PPM。
聲明:
“高純磷烷的凈化和分析” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)