本發(fā)明涉及一種旋轉硅鎂合金靶材,其純度大于99.9%,鎂含量分別為30wt%、40wt%、50wt%,硅余量。本發(fā)明還公開一種制備旋轉硅鎂合金靶材的方法,工藝如下:預處理:對不銹鋼背管進行預處理,其中包括清洗,噴砂粗化;噴涂粘結層:即利用電弧噴涂,在不銹鋼背管噴涂一層0.2-0.5mm厚的鎳
鋁合金涂層,所述涂層起連接不銹鋼背管和后續(xù)噴涂的靶材材料作用;等離子噴涂沉積硅鎂涂層:利用等離子噴涂設備將配置好的硅鎂粉熔射沉積在不銹鋼背管上面形成硅鎂涂層。本發(fā)明的靶材安全性能高,而且均勻性好。
聲明:
“旋轉硅鎂合金靶材及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)