本實用新型涉及一種靶材生產(chǎn)用真空電子束熔煉爐,包括真空電子束熔煉爐,所述真空電子束熔煉爐右表面設(shè)有插接至真空電子束熔煉爐內(nèi)的上料機構(gòu),所述上料機構(gòu)外周壁設(shè)有插接至上料機構(gòu)內(nèi)的密封機構(gòu)。該靶材生產(chǎn)用真空電子束熔煉爐,通過多級推桿輸出軸伸長對柱狀原料進行緩慢推動,通過底部第一電動推桿輸出軸收縮,對下料孔進行部分遮擋,減小出料的口徑,使顆粒狀原料緩慢掉落至輸送帶上,然后通過輸送帶對顆粒狀原料進行輸送,從而即可滿足對柱狀的原料輸送,同時也能滿足對顆粒狀原料的輸送,達到了適應(yīng)性強的目的,而通過設(shè)置第二電動推桿和升降板,則可以提高每次上料后抽真空的速度,方便使用。
聲明:
“靶材生產(chǎn)用真空電子束熔煉爐” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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