本發(fā)明涉及在基片上形成納米結(jié)構(gòu)圖案的方法。所述方法包括:提供基片;用
功能材料涂覆所述基片,以形成功能材料層;將至少一種A聚合物鏈和B聚合物鏈的嵌段共聚物涂覆在所述功能材料層上,以形成層;干燥所述嵌段共聚物,以形成有序的納米域;除去已干燥的嵌段共聚物的A聚合物鏈,以形成空隙;然后從A聚合物鏈已經(jīng)被除去的地方除去所述功能材料。
聲明:
“納米結(jié)構(gòu)圖案的制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)