本申請(qǐng)公開(kāi)了一種流體處理裝置及其制備方法。所述流體處理裝置包括：具有第一流體通道的基體；彼此間隔的若干凸起部，所述凸起部沿橫向在該基體的第一表面上連續(xù)延伸，其上部設(shè)有帽形結(jié)構(gòu)，所述帽形結(jié)構(gòu)的相背對(duì)的兩側(cè)部沿側(cè)向外延，而相鄰帽形結(jié)構(gòu)之間形成有可供流體通過(guò)的開(kāi)口部，其中至少兩個(gè)凸起部分別設(shè)于第一流體通道的流體入口兩側(cè)，至少一凸起部直接從第一流體通道的流體入口上通過(guò)，從而使這些帽形結(jié)構(gòu)、凸起部與基體之間配合形成第二流體通道，待處理的流體僅能通過(guò)第二流體通道進(jìn)入第一流體通道。本申請(qǐng)的流體處理裝置具有通量大、流阻小、能高效清除流體中微/納米級(jí)顆粒等特點(diǎn)，可重復(fù)使用，使用壽命長(zhǎng)，且適于規(guī)?；笈可a(chǎn)。