本發(fā)明涉及一種PBT/POSS新型納米
復合材料及其制備方法,其復合材料是由以下配方為原料制備得到:聚對苯二甲酸環(huán)丁二醇酯(CBT)50-99.99重量份,籠型多面體低聚倍半硅氧烷(POSS)0.01-50重量份,有機錫與POSS等摩爾份。其制備方法采用原位聚合工藝,利用經(jīng)過改性POSS納米粒子而合成的引發(fā)劑來引發(fā)對苯二甲酸環(huán)丁二醇酯(CBT)的開環(huán)聚合反應,制備出PBT/POSS相容性非常好的納米復合材料。
聲明:
“PBT/POSS新型納米復合材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)