一種高介電性能聚偏氟乙烯碳化鈦納米片
復(fù)合材料的制備方法,它涉及一種聚偏氟乙烯復(fù)合材料的制備方法。本發(fā)明的目的是要解決現(xiàn)有聚偏氟乙烯的介電常數(shù)低的問題。方法:一、制備二維層狀TiC納米片;二、復(fù)合,得到碳化鈦納米片質(zhì)量分數(shù)為5%~20%的高介電性能聚偏氟乙烯碳化鈦納米片復(fù)合材料。本發(fā)明制備的高介電性能聚偏氟乙烯碳化鈦納米片復(fù)合材料可應(yīng)用于微電子加工、集成電路、高效率
儲能元件領(lǐng)域;本發(fā)明制備的高介電性能聚偏氟乙烯碳化鈦納米片復(fù)合材料的介電常數(shù)為9.8~19.1。本發(fā)明可獲得一種高介電性能聚偏氟乙烯碳化鈦納米片復(fù)合材料。
聲明:
“高介電性能聚偏氟乙烯碳化鈦納米片復(fù)合材料的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)