本發(fā)明公開了一種硫化鎘敏化硅納米線復合材料及制備和應用，包括硅納米線的制備和硫化鎘敏化硅納米線復合材料的制備。硫化鎘敏化硅納米線復合材料的制備運用連續(xù)離子層吸附反應（SILAR）的方法，將長有硅納米線的硅片，首先浸漬于Cd(NO3)2的乙醇溶液2?min，然后被浸漬于乙醇中1?min并在空氣中干燥，之后被浸漬于Na2S的甲醇溶液2?min，最后被浸漬于甲醇中1?min并且在空氣中干燥，其中硝酸鉻和硫化鈉的摩爾比為Cd(NO3)2 : Na2S=1 : 1，此為一個循環(huán)，重復循環(huán)5~10次，最后在60℃烘箱中干燥即得到硫化鎘敏化硅納米線復合材料。本發(fā)明將金屬援助化學刻蝕法與連續(xù)離子層吸附反應（SILAR）法制備后沉積半導體量子點的方法相結合，所制備的硫化鎘敏化硅納米線復合材料可廣泛應用于光電、催化等領域。