本發(fā)明涉及一種用于生產(chǎn)共擠多層膜(2)的設(shè)備，設(shè)備包括：用于提供熱塑性材料的材料熔體(33)的至少一個擠出器裝置；包括共擠適配器(12,13)和噴嘴部分(33,34)的用于共擠彼此連接的單獨層的多層共擠復(fù)合材料(3)的裝置，共擠適配器(12,13)包括用于生產(chǎn)共擠復(fù)合材料(3)的中心層(5)的中心通道(40,42)，用于生產(chǎn)與中心層(5)相互作用的共擠復(fù)合材料(3)的至少一個另外的層的至少一個共擠通道，用于設(shè)置共擠復(fù)合材料(3)的單獨層中的層厚度(50,52)和/或?qū)雍穸确植嫉亩鄠€可移位設(shè)置元件(47)以及用于致動設(shè)置元件(47)的調(diào)節(jié)裝置(53,55)；用于驅(qū)動調(diào)節(jié)裝置(53,55)的驅(qū)動單元(15,17,23)；用于測量多層共擠復(fù)合材料(3)的單獨層中的層厚度(50,52)和/或?qū)雍穸确植嫉臏y量裝置(24,25)，測量裝置(24,25)被設(shè)計為測量噴嘴部分(33)的下游的單獨層厚度和/或單獨層分布；以及用于控制設(shè)備的設(shè)備控制器(17,18)，設(shè)備控制器(17,18)包括控制器單元(18,19)，控制器單元(18,19)被設(shè)計為使得設(shè)置元件(47)的相對位置可以通過驅(qū)動單元(15,17,23)根據(jù)在已經(jīng)離開噴嘴部分(33,34)的多層膜中測量的層厚度(50,52)和/或?qū)雍穸确植急蛔詣拥兀瑑?yōu)選地迭代地操縱。