本發(fā)明涉及一種具有極低紅外發(fā)射率的熱偽裝納米復合材料的制備方法。通過選用二維金屬過渡碳/氮化物納米片為無機填料，以水性或油性聚氨酯、聚丙烯酸酯及環(huán)氧樹脂等作為高分子基體，通過持續(xù)高速攪拌使得高分子充分且均勻地吸附在MXene納米片上，從而獲得高分子?MXene復合納米漿料。所制備的漿料可以通過澆筑、涂布或者噴涂等方法施工，最終固化得到塊材、板材或薄膜等多種形式的復合材料，可以在各種軍事武器裝備表面使用。在波長為2.5～15.4μm的中紅外范圍內復合材料的紅外發(fā)射率可低至0.2以下，厚度僅為5μm的柔性復合材料薄膜可以將溫度高達100℃的高溫表面?zhèn)窝b至33.8℃，長期使用時性能非常穩(wěn)定，且機械性能十分優(yōu)異。因此在軍事領域展示出了極大的應用前景。