f/SiC復(fù)合材料及其制備方法,復(fù)合材料"> f/SiC復(fù)合材料及其制備方法,本發(fā)明公開(kāi)了一種原位生長(zhǎng)石墨烯增強(qiáng)Cf/SiC復(fù)合材料及其制備方法,其特征在于,所述的原位生長(zhǎng)石墨烯增強(qiáng)Cf/SiC復(fù)合材料由碳纖維預(yù)制件、PyC界面層、石墨烯、SiC基體組成;PyC界面層厚度為300?500nm,石墨烯層數(shù)為3?5層;通過(guò)等離子體增強(qiáng)CVD法在碳纖維預(yù)制體內(nèi)原位生長(zhǎng)石墨烯,然后通過(guò)CVI工藝對(duì)碳纖維預(yù)制件進(jìn)行增密得到原位生長(zhǎng)石墨烯增強(qiáng)Cf/SiC復(fù)合材料。本發(fā)明有效地解決了石墨烯較難在碳纖維預(yù)制件內(nèi)均勻分散易團(tuán)聚的問(wèn)題,同時(shí)原位生長(zhǎng)的石">

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原位生長(zhǎng)石墨烯增強(qiáng)Cf/SiC復(fù)合材料及其制備方法

1126   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 15:33:01
本發(fā)明公開(kāi)了一種原位生長(zhǎng)石墨烯增強(qiáng)Cf/SiC復(fù)合材料及其制備方法,其特征在于,所述的原位生長(zhǎng)石墨烯增強(qiáng)Cf/SiC復(fù)合材料由碳纖維預(yù)制件、PyC界面層、石墨烯、SiC基體組成;PyC界面層厚度為300?500nm,石墨烯層數(shù)為3?5層;通過(guò)等離子體增強(qiáng)CVD法在碳纖維預(yù)制體內(nèi)原位生長(zhǎng)石墨烯,然后通過(guò)CVI工藝對(duì)碳纖維預(yù)制件進(jìn)行增密得到原位生長(zhǎng)石墨烯增強(qiáng)Cf/SiC復(fù)合材料。本發(fā)明有效地解決了石墨烯較難在碳纖維預(yù)制件內(nèi)均勻分散易團(tuán)聚的問(wèn)題,同時(shí)原位生長(zhǎng)的石墨烯可顯著提高Cf/SiC復(fù)合材料的力學(xué)性能。
聲明:
“原位生長(zhǎng)石墨烯增強(qiáng)Cf/SiC復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)
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