本發(fā)明公開了一種低介電常數(shù)液晶
復(fù)合材料及其制備方法,其中,所制備的低介電常數(shù)液晶復(fù)合材料,其特征在于,包括如下質(zhì)量含量的組分:熱塑性液晶聚合物50?80wt%;無機填料10?30wt%;紫外吸收劑10?20wt%;其中,所述熱塑性液晶聚合物為聚對苯二甲酰對苯二胺液晶聚合物,其分子結(jié)構(gòu)為
其中,y=1?x,0<x<1,R
1的結(jié)構(gòu)為
R
2選自雜環(huán)芳香基團、多環(huán)芳香基團中的任意一種。本發(fā)明通過添加的紫外吸收劑能夠減弱外接的光照對低介電常數(shù)液晶復(fù)合材料的性能的影響,從而使得所制備的低介電常數(shù)液晶復(fù)合材料的介電常數(shù)在外界環(huán)境的紫外光的照射下能夠保持穩(wěn)定。
聲明:
“低介電常數(shù)液晶復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)