本發(fā)明提供了
復合材料,以及使用該復合材料的方法。該復合材料包含分散在結合劑基質中的至少65體積%的之立方氮化硼(cBN)晶粒(10),所述結合劑基質包括結合到cBN晶粒(10)的多種顯微組織(12)和所述cBN晶粒(10)之間的多個中間區(qū)域(14);顯微組織(12)包括金屬的氮化物或硼化合物;和中間區(qū)域(14)包括含有與硅化學結合的金屬的硅化物相;其中該硅化物相的含量為復合材料的2到6重量%,并且其中所述cBN晶粒(10)具有0.2?20微米的平均尺寸。可以進一步含有氮化硅(16)。該金屬可以優(yōu)選為鈦,鉿,鉭或鋯。
聲明:
“立方氮化硼復合材料,其使用方法,其制備方法及包含其的工具” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)