本發(fā)明公開一種無定形CoMoS
4/NiSe納米片陣列
復合材料的制備方法,包括以下步驟:(1)在水熱條件下,六水合硝酸鈷和七水合鉬酸鈉發(fā)生反應,在泡沫鎳上生長出CoMoO
4納米片陣列;(2)將硫化鈉與CoMoO
4納米片陣列進行水熱反應形成無定形CoMoS
4納米片陣列;(3)在水熱條件下,六水合氯化鎳、二氧化硒和尿素發(fā)生反應形成無定形NiSe,并沉積在無定形CoMoS
4納米片陣列的表面,最終得到無定形CoMoS
4/NiSe納米片陣列復合材料。該制備方法簡單、成本低,且制得的無定形CoMoS
4/NiSe納米片陣列復合材料具有高的比電容和良好的循環(huán)穩(wěn)定性,可應用于超級電容器電極材料,具有很好的應用前景。
聲明:
“無定形四硫代鉬酸鈷/硒化鎳納米片陣列復合材料的制備方法及其應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)