本發(fā)明提供了一種CVD系統(tǒng)及制備大尺寸炭/炭
復合材料的方法,所述系統(tǒng)包括CVD氣相沉積爐,所述CVD氣相沉積爐包括爐體、設(shè)于爐體內(nèi)相連通的下加熱區(qū)及上加熱區(qū)和貫穿于上下加熱區(qū)內(nèi)的料柱組,所述爐體的側(cè)壁內(nèi)設(shè)有分別對上下加熱區(qū)加熱的第一加熱腔和第二加熱腔,所述下加熱區(qū)內(nèi)設(shè)有由下到上依次設(shè)置的第一預熱導流機構(gòu)和第一裝料分流機構(gòu),所述上加熱區(qū)設(shè)有補氣結(jié)構(gòu)和第二裝料分流機構(gòu),所述爐體側(cè)壁設(shè)有與第一加熱腔聯(lián)通的氮氣進氣口。通過分層導向進氣且分層預熱,優(yōu)化了流場,提高產(chǎn)品質(zhì)量均一性。CVD過程中控制氣體定向流動,結(jié)合優(yōu)化的溫度、壓力和氣體流速的控制,實現(xiàn)大尺寸熱場坩堝炭/炭復合材料的快速制備。
聲明:
“CVD系統(tǒng)及制備大尺寸炭/炭復合材料的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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